摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 纳米材料 | 第10-11页 |
1.1.1 纳米材料的研究进展 | 第10页 |
1.1.2 纳米材料的特性 | 第10-11页 |
1.2 碳纳米管的应用与制备 | 第11-13页 |
1.2.1 碳纳米管的应用 | 第11-12页 |
1.2.2 碳纳米管的制备 | 第12-13页 |
1.3 真空微电子器件中的应用 | 第13-14页 |
1.3.1 场致发射显示器 | 第13页 |
1.3.2 微电子传感器 | 第13-14页 |
1.3.3 微波器件 | 第14页 |
1.4 冷阴极的研究与应用 | 第14-15页 |
1.4.1 金属微尖形场发射阵列 | 第14-15页 |
1.4.2 碳纳米管薄膜发射阵列 | 第15页 |
1.5 碳纳米管薄膜的场发射 | 第15-17页 |
1.5.1 场发射机制 | 第15-16页 |
1.5.2 碳纳米管薄膜发射性能 | 第16-17页 |
1.6 本文的研究背景、研究内容和意义 | 第17-20页 |
1.6.1 研究背景 | 第17-18页 |
1.6.2 研究内容 | 第18页 |
1.6.3 意义 | 第18-20页 |
2 实验准备及实验 | 第20-26页 |
2.1 超高真空场发射系统 | 第20-23页 |
2.1.1 真空系统 | 第20-21页 |
2.1.2 二极发射结构 | 第21页 |
2.1.3 数据自动记录模块 | 第21-22页 |
2.1.4 荧光屏的制备 | 第22-23页 |
2.2 实验 | 第23-26页 |
2.2.1 改善碳纳米管薄膜与基底的界面性能 | 第23-24页 |
2.2.2 碳纳米管块体复合冷阴极 | 第24-26页 |
3 结果与讨论 | 第26-43页 |
3.1 碳纳米管薄膜与基底的界面性能分析 | 第26-31页 |
3.1.1 表征分析 | 第26-28页 |
3.1.2 场发射分析 | 第28-29页 |
3.1.3 超声损伤分析 | 第29-30页 |
3.1.4 生长模型与机理分析 | 第30-31页 |
3.1.5 小结 | 第31页 |
3.2 复合碳纳米管块体冷阴极的分析与测试 | 第31-43页 |
3.2.1 熔铸法制备复合碳纳米管块体冷阴极的形貌、测试与分析 | 第31-34页 |
3.2.2 烧结法制备复合碳纳米管块体冷阴极的形貌、测试与分析 | 第34-42页 |
3.2.3 小结 | 第42-43页 |
4 结论 | 第43-45页 |
4.1 主要的实验工作 | 第43页 |
4.2 结论 | 第43-45页 |
参考文献 | 第45-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
作者简介 | 第50页 |