| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-21页 |
| 1.1 纳滤技术简介 | 第9-10页 |
| 1.1.1 纳滤膜 | 第9页 |
| 1.1.2 纳滤膜分离机理 | 第9-10页 |
| 1.2 高通量纳滤膜的研究进展 | 第10-19页 |
| 1.2.1 界面聚合 | 第10-11页 |
| 1.2.2 超薄复合膜(TFC) | 第11-13页 |
| 1.2.3 超薄纳米复合膜(TFN) | 第13-19页 |
| 1.3 课题的提出与研究思路 | 第19-21页 |
| 1.3.1 课题的提出 | 第19页 |
| 1.3.2 课题的研究思路 | 第19-21页 |
| 第二章 实验部分 | 第21-31页 |
| 2.1 实验原料与设备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 试剂 | 第21-22页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 实验方法 | 第23-31页 |
| 2.2.1 纳米复合膜的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.2 表征方法 | 第24-26页 |
| 2.2.3 纳米复合膜性能评价 | 第26-31页 |
| 第三章 基于碳酸钙改性制备高通量纳米复合膜 | 第31-43页 |
| 3.1 碳酸钙杂化改性纳米复合膜(TEPA-CaCO_3/TMC)的制备与表征 | 第32-38页 |
| 3.1.1 TEPA-CaCO_3/TMC纳米复合膜的制备 | 第32页 |
| 3.1.2 TEPA-CaCO_3/TMC纳米复合膜的表征 | 第32-38页 |
| 3.2 TEPA-CaCO_3/TMC纳米复合膜的分离性能 | 第38-41页 |
| 3.3 小结 | 第41-43页 |
| 第四章 基于石墨烯量子点杂化改性制备高通量抗污染纳米复膜 | 第43-55页 |
| 4.1 石墨烯量子点的制备与表征 | 第43-45页 |
| 4.1.1 石墨烯量子点的制备 | 第43-44页 |
| 4.1.2 石墨烯量子点的表征 | 第44-45页 |
| 4.2 石墨烯量子点杂化改性纳米复合膜(PIP-GQDs/TMC)的制备与表征 | 第45-49页 |
| 4.2.1 PIP-GQDs/TMC纳米复合膜的制备 | 第45页 |
| 4.2.2 PIP-GQDs/TMC纳米复合膜的表征 | 第45-49页 |
| 4.3 PIP-GQDs/TMC纳米复合膜的分离性能 | 第49-50页 |
| 4.4 PIP-GQDs/TMC纳米复合膜的抗污染性能 | 第50-52页 |
| 4.5 小结 | 第52-55页 |
| 第五章 基于TiO_2杂化改性制备高通量纳米复合膜 | 第55-71页 |
| 5.1 TiO_2杂化改性纳米复合膜的制备与表征 | 第55-63页 |
| 5.1.1 TiO_2杂化改性的纳米复合膜的制备 | 第55-56页 |
| 5.1.2 TiO_2杂化改性的纳米复合膜的表征 | 第56-63页 |
| 5.2 TiO_2杂化改性的纳米复合膜的分离性能 | 第63-68页 |
| 5.3 TiO_2杂化改性的纳米复合膜的长期稳定性 | 第68-69页 |
| 5.4 小结 | 第69-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 结论 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-83页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
