基于物理吸收和薄膜厚度的贵金属介电参数Lorentz-Drude模型优化分析研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 表面等离子体技术 | 第9-11页 |
| 1.2.1 表面等离子体研究状况及发展方向 | 第9-10页 |
| 1.2.2 表面等离子体波 | 第10-11页 |
| 1.3 纳米金属薄膜 | 第11-13页 |
| 1.3.1 纳米金属材料特性与选择 | 第12页 |
| 1.3.2 纳米金属薄膜发展现状 | 第12-13页 |
| 1.4 论文主要内容及结构 | 第13-15页 |
| 第二章 经典介电常数分析模型及金属的光学参数 | 第15-20页 |
| 2.1 经典介电常数模型 | 第15-17页 |
| 2.1.1 Drude模型 | 第15-16页 |
| 2.1.2 Lorentz-Drude模型 | 第16-17页 |
| 2.2 金属的光学参数 | 第17-20页 |
| 2.2.1 金属的电导率 | 第17-19页 |
| 2.2.2 金属介电常数的推导 | 第19-20页 |
| 第三章 贵金属介电常数与工作波长关系优化 | 第20-33页 |
| 3.1 基于最小平方误差分析的Drude模型优化 | 第20-25页 |
| 3.1.1 Drude模型参数优化 | 第21-24页 |
| 3.1.2 电子有效质量 | 第24-25页 |
| 3.2 可见光频段贵金属介电常数模型优化 | 第25-33页 |
| 3.2.1 贵金属薄膜光频附近物理效应 | 第25-26页 |
| 3.2.2 光频段贵金属的介电常数分析 | 第26-33页 |
| 第四章 贵金属薄膜厚度对其介电常数的影响 | 第33-41页 |
| 4.1 连续金属薄膜的电导率 | 第33-35页 |
| 4.2 金属膜变薄时其内部自由电子弛豫时间的变化 | 第35-36页 |
| 4.3 金属膜变薄时对介电常数的影响 | 第36-41页 |
| 第五章 结论与展望 | 第41-43页 |
| 5.1 结论 | 第41-42页 |
| 5.2 展望 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 在学期间的研究成果 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46页 |
