| 中文摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 前言 | 第13-41页 |
| 1.1 研究背景及立题意义 | 第13-14页 |
| 1.2 CMP简介 | 第14-19页 |
| 1.3 纳米颗粒分散稳定性 | 第19-29页 |
| 1.4 碳化硅化学机械抛光液的研究进展 | 第29-32页 |
| 1.5 本文主要内容 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-41页 |
| 第二章 酸性氧化铝磨料在氧化剂溶液中的分散稳定性 | 第41-89页 |
| 2.1 引言 | 第41-42页 |
| 2.2 仪器和药品 | 第42-43页 |
| 2.2.1 主要仪器及设备 | 第42页 |
| 2.2.2 原料及试剂 | 第42-43页 |
| 2.3 实验方法 | 第43-45页 |
| 2.3.1 氧化铝的处理 | 第43页 |
| 2.3.2 氧化铝等电点的测定 | 第43页 |
| 2.3.3 临界聚沉盐浓度的测定 | 第43页 |
| 2.3.4 硝酸铝对氧化铝的影响 | 第43页 |
| 2.3.5 颗粒在盐溶液中的稳定性评价 | 第43-45页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第45-83页 |
| 2.4.1 氧化铝的表征 | 第45-47页 |
| 2.4.2 硝酸铝的影响 | 第47-52页 |
| 2.4.3 盐和氧化剂的影响 | 第52-83页 |
| 2.5 本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 第三章 氧化铝-氧化硅及氧化铝-氧化锰体系稳定性 | 第89-117页 |
| 3.1 引言 | 第89-90页 |
| 3.2 仪器和药品 | 第90-91页 |
| 3.2.1 主要仪器及设备 | 第90页 |
| 3.2.2 原料及试剂 | 第90-91页 |
| 3.3 实验方法 | 第91-92页 |
| 3.3.1 氧化铝、氧化硅的处理 | 第91页 |
| 3.3.2 氧化硅吸附对氧化铝稳定性的影响 | 第91页 |
| 3.3.3 锰化合物的生成对体系稳定性的影响 | 第91页 |
| 3.3.4 硝酸铝的影响 | 第91-92页 |
| 3.3.5 体系稳定性评价 | 第92页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第92-112页 |
| 3.4.1 氧化硅对氧化铝分散体系稳定性影响 | 第92-104页 |
| 3.4.2 锰氧化物的生成对氧化铝分散稳定性的影响 | 第104-112页 |
| 3.5 本章小结 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-117页 |
| 第四章 酸性氧化铝抛光液在碳化硅化学机械抛光中的应用 | 第117-126页 |
| 4.1 引言 | 第117-118页 |
| 4.2 仪器和药品 | 第118页 |
| 4.2.1 主要仪器及设备 | 第118页 |
| 4.2.2 原料及试剂 | 第118页 |
| 4.3 实验内容 | 第118-119页 |
| 4.3.1 氧化铝抛光液配制 | 第118页 |
| 4.3.2 氧化剂的配制 | 第118-119页 |
| 4.3.3 化学机械抛光 | 第119页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第119-123页 |
| 4.4.1 高锰酸钾浓度对抛光性能的影响 | 第119-120页 |
| 4.4.2 硝酸铝对抛光性能的影响 | 第120-123页 |
| 4.5 本章小结 | 第123-124页 |
| 参考文献 | 第124-126页 |
| 论文的创新性和不足 | 第126-127页 |
| 致谢 | 第127-128页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第128-129页 |
| 附件 | 第129-143页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第143页 |