| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-30页 |
| ·铁电材料简介 | 第9-13页 |
| ·晶体的铁电性及其分类 | 第9-12页 |
| ·铁电材料的研究历史 | 第12-13页 |
| ·铁电材料钛酸锶钡(Ba_xSr_(1-x)TiO_3)简介 | 第13-16页 |
| ·钛酸锶钡粉体的制备方法 | 第16-19页 |
| ·固相法 | 第16-17页 |
| ·液相法 | 第17-18页 |
| ·气相法 | 第18-19页 |
| ·钛酸锶钡薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射(Magnetron sputtering)法 | 第19-20页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法 | 第20页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第20页 |
| ·溶胶—凝胶(Sol—Gel)法 | 第20-21页 |
| ·BST薄膜的应用及研究现状 | 第21-25页 |
| ·PLD薄膜生长理论 | 第25-28页 |
| ·分子动力学 | 第25-26页 |
| ·能量最小化 | 第26页 |
| ·蒙特卡罗方法及其在薄膜生长研究中的应用 | 第26-27页 |
| ·在薄膜生长中主要应用的蒙特卡罗模型 | 第27页 |
| ·扩散限制聚集模型及其相关模型 | 第27-28页 |
| ·考虑衬底温度的蒙特卡罗模型 | 第28页 |
| ·本论文的选题依据与主要研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第30-37页 |
| ·陶瓷制备设备 | 第30页 |
| ·脉冲激光沉积薄膜设备 | 第30-34页 |
| ·PLD技术发展过程及其优点 | 第31页 |
| ·PLD技术改进措施 | 第31-32页 |
| ·PLD实验系统组成 | 第32-33页 |
| ·PLD技术制备薄膜的物理过程 | 第33页 |
| ·薄膜的形成 | 第33-34页 |
| ·X射线θ-20衍射及单θ扫描 | 第34-37页 |
| ·X射线θ-20衍射 | 第34-35页 |
| ·单θ扫描 | 第35-37页 |
| 第三章 钛酸锶钡陶瓷的制备及电性能 | 第37-46页 |
| ·钛酸锶钡陶瓷固相法制备详细实验流程 | 第37-40页 |
| ·样品的XRD表征及分析 | 第40-41页 |
| ·钛酸锶钡陶瓷电性能测试及分析 | 第41-44页 |
| ·铁电电滞回线 | 第41-43页 |
| ·介频特性 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 钛酸锶钡薄膜的制备 | 第46-65页 |
| ·靶材的制备及其XRD表征 | 第46页 |
| ·PLD法制备钛酸锶钡薄膜最佳镀膜工艺的探索 | 第46-64页 |
| ·不退火工艺 | 第47-48页 |
| ·退火工艺 | 第48-49页 |
| ·最佳生长氧压的确定 | 第49-52页 |
| ·膜厚对薄膜生长影响 | 第52-55页 |
| ·脉冲激光能量对薄膜生长的影响 | 第55-56页 |
| ·降温速率对薄膜结晶质量的影响 | 第56-58页 |
| ·Co的微量掺杂对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜结晶性能的影响 | 第58-61页 |
| ·不同衬底上制备Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录:攻读硕士期间取得的研究成果 | 第72页 |
