| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| 1.1 嵌段聚合物微相分离概述 | 第8-9页 |
| 1.2 嵌段聚合物在薄膜中的自组装 | 第9-16页 |
| 1.2.1 薄膜厚度对微相分离形貌的影响 | 第10-11页 |
| 1.2.2 链段体积分数 f 对微相分离形貌的影响 | 第11页 |
| 1.2.3 链段间的相互作用力χ对微相分离形貌的影响 | 第11-12页 |
| 1.2.4 热诱导时间对微相分离形貌的影响 | 第12-13页 |
| 1.2.5 溶剂退火对微相分离形貌的影响 | 第13-15页 |
| 1.2.6 其他退火方法 | 第15-16页 |
| 1.3 嵌段共聚物微相分离的应用 | 第16-22页 |
| 1.3.1 制备纳米粒子图案 | 第16-18页 |
| 1.3.2 以沉积纳米粒子阵列为催化剂生长其他材料 | 第18-20页 |
| 1.3.3 两层纳米粒子阵列的叠加 | 第20-22页 |
| 1.4 研究思路及创新之处 | 第22-23页 |
| 第二章 实验原料及实验设备 | 第23-27页 |
| 2.1 实验原料 | 第23-24页 |
| 2.1.1 PDMS 的性质 | 第24页 |
| 2.1.2 PS-b-P2VP 的性质 | 第24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 2.3 表征手段 | 第25-27页 |
| 2.3.1 倒置荧光显微镜（IFM）分析 | 第25页 |
| 2.3.2 扫描电镜（SEM）分析 | 第25-26页 |
| 2.3.3 原子力显微镜（AFM）分析 | 第26-27页 |
| 第三章 不同条件下的微相分离形貌 | 第27-39页 |
| 3.1 金属纳米粒子有序阵列在硅基底上的制备 | 第27-29页 |
| 3.1.1 胶束法制备嵌段共聚物多孔纳米膜 | 第27页 |
| 3.1.2 溶液法制备嵌段共聚物多孔纳米膜 | 第27-28页 |
| 3.1.3 反转旋涂法制备有序 Au 纳米粒子阵列 | 第28页 |
| 3.1.4 浸泡法制备有序 Au 纳米粒子阵列 | 第28页 |
| 3.1.5 混合旋涂法制备有序 Au 纳米粒子阵列 | 第28-29页 |
| 3.1.6 有序 Fe_2O_3、Ag 和 Pt 等纳米粒子阵列的制备 | 第29页 |
| 3.2 有序纳米粒子阵列在 PDMS 印章基底上的制备 | 第29页 |
| 3.2.1 CD 模板及 DVD 模板的复制 | 第29页 |
| 3.2.2 PDMS 印章基底上有序纳米粒子阵列的制备 | 第29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-38页 |
| 3.3.1 不同溶剂退火 PS-b-P2VP 膜对制备 Au 纳米粒子阵列的影响 | 第29-31页 |
| 3.3.2 利用不同前驱体引入方式制备 Au 纳米粒子阵列 | 第31-34页 |
| 3.3.3 不同种类纳米粒子阵列的制备 | 第34-35页 |
| 3.3.4 不同基底对 Au 纳米粒子阵列的影响 | 第35-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 叠加纳米粒子阵列的制备 | 第39-50页 |
| 4.1 单层有序纳米粒子阵列的制备 | 第39页 |
| 4.2 双层有序纳米粒子阵列的制备 | 第39-40页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第40-49页 |
| 4.3.1 不同形貌的纳米粒子阵列的叠加 | 第40-44页 |
| 4.3.2 不同粒径大小的纳米粒子阵列的叠加 | 第44-48页 |
| 4.3.3 不同种类纳米粒子阵列的叠加 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
