| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 无机薄膜电致发光器件的发展及所面临的主要问题 | 第11-13页 |
| 1.3 新的蓝光材料金刚石薄膜的发现及意义 | 第13-14页 |
| 1.4 电致发光器件的前景展望 | 第14页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 薄膜器件电致发光机理 | 第16-22页 |
| 2.1 引言 | 第16-17页 |
| 2.2 金刚石薄膜的电致发光原理 | 第17页 |
| 2.3 低场注入式电致发光 | 第17-19页 |
| 2.4 高场电致发光 | 第19-22页 |
| 2.4.1 发光中心 | 第19页 |
| 2.4.2 分立发光中心 | 第19-20页 |
| 2.4.3 复合发光中心 | 第20-21页 |
| 2.4.4 杂质中心的复合发光 | 第21-22页 |
| 第三章 实验仪器的介绍 | 第22-33页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 电子束物理气相沉积（EBVD）系统 | 第22-25页 |
| 3.2.1 DZS500a 型电子束 PVD 系统及特点 | 第22-24页 |
| 3.2.2 电子束物理气相沉积（EBVD）系统的工作原理 | 第24页 |
| 3.2.3 实验的主要参数 | 第24页 |
| 3.2.4 电子束物理气相沉积（EBVD）系统的实验步骤 | 第24-25页 |
| 3.3 微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统 | 第25-30页 |
| 3.3.1 MMPS-203C 型微波等离子 CVD 系统 | 第25-27页 |
| 3.3.2 MPCVD 系统制备金刚石薄膜的原理 | 第27-29页 |
| 3.3.3 MPCVD 系统制备金刚石薄膜的实验步骤 | 第29-30页 |
| 3.4 超声仪的工作原理及其使用方法 | 第30-33页 |
| 3.4.1 DL-720D 型超声仪系统 | 第30页 |
| 3.4.2 DL-720D 型超声仪系统工作原理 | 第30-31页 |
| 3.4.3 DL-720D 型超声仪系统的使用方法 | 第31-33页 |
| 第四章 金刚石薄膜电致发光器件的研究 | 第33-54页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 金刚石薄膜的制备 | 第33-36页 |
| 4.3 金刚石/硼/掺铝氧化锌结构电致发光器件 | 第36-44页 |
| 4.3.1 器件的制备 | 第37-40页 |
| 4.3.2 测试与分析 | 第40-44页 |
| 4.4 金刚石/硼/金刚石/掺铝氧化锌结构电致发光器件 | 第44-47页 |
| 4.4.1 器件的制备 | 第44-45页 |
| 4.4.2 测试与分析 | 第45-47页 |
| 4.5 金刚石/硼/二氧化硅/掺铝氧化锌结构电致发光器件 | 第47-52页 |
| 4.5.1 器件的制备 | 第48-49页 |
| 4.5.2 测试与分析 | 第49-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 在读期间公开发表论文和承担的科研 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
