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末端氨基参与共振染料的非线性光学性能

中文摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第12-32页
    1.1 引言第12页
    1.2 末端氨基参与共振的染料第12-19页
        1.2.1 末端氨基作为供电子基团的D-π-A结构染料第12-16页
        1.2.2 末端氨基作为供电子基团参与共振的染料第16-17页
        1.2.3 末端氨基参与共振染料的非线性光学效应第17-19页
    1.3 光学薄膜材料第19-21页
        1.3.1 光学薄膜应用领域第19页
        1.3.2 旋涂法制备光学薄膜材料第19-20页
        1.3.3 染料-聚合物掺杂的光学薄膜材料第20-21页
    1.4 非线性光学材料第21-25页
        1.4.1 非线性光学发展简介第21页
        1.4.2 非线性光学材料种类第21-24页
        1.4.3 非线性光学测试方法第24-25页
    1.5 飞秒瞬态吸收测量技术第25-31页
        1.5.1 飞秒瞬态吸收测试发展简介第25页
        1.5.2 瞬态吸收测试机理及仪器第25-27页
        1.5.3 瞬态吸收数据处理方法第27-29页
        1.5.4 瞬态吸收光谱应用领域第29-31页
    1.6 本论文主要内容和研究意义第31-32页
        1.6.1 主要内容第31页
        1.6.2 研究意义第31-32页
第二章N-三烷基取代苯并噁嗪分子的非线性光学性能研究第32-45页
    2.1 引言第32页
    2.2 分子设计及性能测试第32-33页
    2.3 实验仪器及试剂第33-34页
        2.3.1 主要实验仪器第33页
        2.3.2 主要原料第33-34页
    2.4 染料分子1的合成与掺杂薄膜的制备第34-35页
        2.4.1 染料分子的合成第34-35页
        2.4.2 薄膜制备方法第35页
    2.5 薄膜性能研究第35-44页
        2.5.1 透射电镜(TEM)测试第35-36页
        2.5.2 扫描电镜(SEM)测试第36-37页
        2.5.3 原子力显微镜(AFM)测试第37-39页
        2.5.4 掺杂薄膜以及溶液的紫外可见光谱第39-40页
        2.5.5 溶液及掺杂薄膜的Z-扫描测试第40-44页
    2.6 本章小结第44-45页
第三章N-四烷基取代苯并噁嗪分子的非线性光学性能研究第45-59页
    3.1 引言第45页
    3.2 分子设计合成及光学性能研究第45页
    3.3 实验仪器及试剂第45-47页
        3.3.1 主要实验仪器第45-46页
        3.3.2 主要原料第46-47页
    3.4 染料分子2的合成与掺杂薄膜的制备第47-49页
        3.4.1 染料分子的合成第47-48页
        3.4.2 薄膜制备方法第48-49页
    3.5 薄膜性能研究第49-57页
        3.5.1 透射电镜(TEM)测试第49页
        3.5.2 原子力显微镜(AFM)测试第49-50页
        3.5.3 扫描电镜(SEM)测试第50页
        3.5.4 掺杂薄膜以及溶液的紫外可见光谱第50-51页
        3.5.5 染料2在不同溶剂中的Z-扫描测试第51-53页
        3.5.6 染料-聚合物PMMA掺杂薄膜的飞秒瞬态吸收光谱第53-57页
    3.6 本章小结第57-59页
第四章 含末端氨基的吡喃衍生物的非线性光学性能研究第59-72页
    4.1 引言第59页
    4.2 分子设计及光学性能研究第59-60页
    4.3 实验仪器及试剂第60-61页
        4.3.1 主要实验仪器第60页
        4.3.2 主要原料第60-61页
    4.4 染料分子 3a-3d的合成第61-62页
    4.5 染料 3a-3d溶液的光学性能研究第62-70页
        4.5.1 紫外可见吸收光谱第62-63页
        4.5.2 飞秒瞬态吸收光谱第63-68页
        4.5.3 染料 3a-3d溶液的Z-扫描测试第68-70页
    4.6 本章小结第70-72页
第五章 结论与展望第72-74页
    5.1 结论第72-73页
    5.2 展望第73-74页
参考文献第74-90页
硕士期间发表的论文第90-91页
附录第91-99页
致谢第99-100页

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