| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景与选题意义 | 第9-14页 |
| ·可调谐光学薄膜滤波器的研究意义 | 第9-10页 |
| ·非晶硅薄膜工艺研究的意义 | 第10-11页 |
| ·热光可调谐F-P 薄膜滤波器研究进展 | 第11-14页 |
| ·论文结构及内容安排 | 第14-15页 |
| 第二章 基于F-P 薄膜滤波器的理论基础 | 第15-23页 |
| ·法布里珀罗干涉原理 | 第15-18页 |
| ·F-P 基本理论 | 第15-17页 |
| ·全介质型F-P 滤光片 | 第17-18页 |
| ·光学薄膜基本理论 | 第18-23页 |
| ·薄膜干涉理论 | 第18-20页 |
| ·多层介质膜理论 | 第20-23页 |
| 第三章 F-P 薄膜滤波器的结构设计与分析 | 第23-53页 |
| ·F-P 薄膜滤波器典型结构的设计 | 第23-32页 |
| ·窄带单通道薄膜滤光片 | 第23-27页 |
| ·平顶响应薄膜滤波器 | 第27-30页 |
| ·多通道薄膜滤波器 | 第30-32页 |
| ·厚度误差对光谱特性的影响 | 第32-40页 |
| ·膜系的灵敏度分析 | 第33-34页 |
| ·膜系光谱特性容差分析 | 第34-37页 |
| ·滤光片的膜厚监控策略 | 第37-40页 |
| ·热光调谐性能仿真 | 第40-43页 |
| ·热光调谐原理 | 第40-41页 |
| ·滤光片的调谐畸变模拟 | 第41-43页 |
| ·滤波器热控制分析 | 第43-52页 |
| ·热传导基本理论 | 第44-45页 |
| ·一维稳态热传导模拟 | 第45-47页 |
| ·三维热场的温度分布 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 PECVD 制备非晶硅薄膜的淀积理论及实验条件 | 第53-65页 |
| ·PECVD 制备非晶硅薄膜的淀积理论 | 第53-58页 |
| ·PECVD 制备非晶硅薄膜及其微观过程 | 第53-55页 |
| ·等离子体中的化学反应 | 第55-56页 |
| ·非晶硅薄膜表面的成膜机理 | 第56-58页 |
| ·非晶硅薄膜的实验设计和工艺及测试条件 | 第58-64页 |
| ·实验设备 | 第58-60页 |
| ·测试设备及测试原理 | 第60-62页 |
| ·样品制备 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 实验样品的测试及分析 | 第65-72页 |
| ·非晶硅薄膜表面形态及内部结构的研究 | 第65-68页 |
| ·非晶硅薄膜椭偏仪测试及分析 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-74页 |
| ·论文完成的工作 | 第72页 |
| ·论文的后续工作 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第78-79页 |