摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-16页 |
1.1 研究背景与意义 | 第8-9页 |
1.1.1 电缆中的微放电现象 | 第8-9页 |
1.1.2 GIL/GIS中的微放电现象 | 第9页 |
1.2 大气压放电等离子体材料表面改性方法 | 第9-13页 |
1.2.1 大气压放电等离子体概述 | 第9-11页 |
1.2.2 大气压放电等离子体材料表面改性研究进展 | 第11-13页 |
1.3 中科院电工所研究工作 | 第13-15页 |
1.4 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
2 实验装置与测量系统 | 第16-25页 |
2.1 基于大气压弥散放电的AP-PECVD实验装置 | 第16-17页 |
2.2 基于大气压介质阻挡放电的AP-PECVD实验装置 | 第17-18页 |
2.3 起举电压测量实验装置 | 第18-19页 |
2.4 理化特性分析方法 | 第19-24页 |
2.4.1 化学组成分析 | 第19-21页 |
2.4.2 表面形貌观察及介电特性测量 | 第21-24页 |
2.5 本章小结 | 第24-25页 |
3 基于大气压弥散放电的AP-PECVD实验 | 第25-37页 |
3.1 大气压弥散放电特性研究 | 第25-28页 |
3.2 AP-PECVD实验放电特性研究 | 第28-32页 |
3.2.1 放电气体对电气特性的影响 | 第28-30页 |
3.2.2 放电气体对光学特性的影响 | 第30-32页 |
3.3 薄膜化学组成分析 | 第32-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
4 基于大气压介质阻挡放电的AP-PECVD实验 | 第37-50页 |
4.1 大气压介质阻挡放电特性研究 | 第37-40页 |
4.2 AP-PECVD实验放电特性研究 | 第40-42页 |
4.3 薄膜化学组成分析 | 第42-46页 |
4.3.1 FTIR测试 | 第42-43页 |
4.3.2 XPS测试 | 第43-46页 |
4.4 绝缘薄膜稳定性测试 | 第46-49页 |
4.5 本章小结 | 第49-50页 |
5 硅氧烷绝缘薄膜对微放电的抑制作用研究 | 第50-66页 |
5.1 介电特性测试 | 第50-53页 |
5.1.1 薄膜的厚度 | 第50-52页 |
5.1.2 薄膜的相对介电常数与体积电阻率 | 第52-53页 |
5.2 薄膜对导体表面畸变电场的改善作用 | 第53-55页 |
5.3 薄膜对金属微粒起举运动的抑制作用 | 第55-65页 |
5.3.1 裸露电极中金属微粒的起举电压 | 第55-64页 |
5.3.2 薄膜对金属微粒起举电压的影响 | 第64-65页 |
5.4 本章小结 | 第65-66页 |
6 实验总结与展望 | 第66-68页 |
6.1 主要工作总结 | 第66-67页 |
6.2 未来工作展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
致谢 | 第74-75页 |