| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-26页 |
| 1.1 蘸水笔纳米光刻术概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 蘸水笔纳米光刻术的产生与发展 | 第8-10页 |
| 1.1.2 蘸水笔纳米光刻术理论基础 | 第10-11页 |
| 1.2 蘸水笔纳米光刻术构造纳米结构研究进展 | 第11-14页 |
| 1.3 偶氮苯及其衍生物的光刺激响应性 | 第14-18页 |
| 1.3.1 偶氮苯的分类及其吸收光谱 | 第15-16页 |
| 1.3.2 偶氮苯的光化学 | 第16-18页 |
| 1.4 基于偶氮苯官能团的光刺激响应表面研究进展 | 第18-24页 |
| 1.4.1 吸附于固体表面的偶氮苯单分子膜 | 第18-19页 |
| 1.4.2 偶氮苯类自组装分子膜 | 第19-24页 |
| 1.5 本论文的研究内容与意义 | 第24-26页 |
| 第二章 三官能团光刺激响应性偶氮苯的合成与表征 | 第26-40页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-30页 |
| 2.2.1 原料和试剂 | 第26页 |
| 2.2.2 仪器 | 第26-27页 |
| 2.2.3 4,4'-二羟基偶氮苯(DiOHAZO)的合成 | 第27页 |
| 2.2.4 4-羟基-4'-(n-溴烷氧基)偶氮苯(HOAZOOC_nBr,n=3,4,5,6,8,12)的合成 | 第27-28页 |
| 2.2.5 4-羟基-4'-(n-巯基烷氧基)偶氮苯(HOAZOOC_nSH,n=3,4,5,6,8,12)的合成 | 第28-30页 |
| 2.2.6 偶氮苯硫醇衍生物的光响应性测试 | 第30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-39页 |
| 2.3.1 目标化合物(以HOAZOOC_3SH为例)合成工艺研究 | 第31-36页 |
| 2.3.2 HOAZOOCnSH光刺激响应性质 | 第36-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 用蘸水笔纳米光刻术构造有序的偶氮苯衍生物微、纳米结构 | 第40-60页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验部分 | 第40页 |
| 3.2.1 原料 | 第40页 |
| 3.2.2 仪器 | 第40页 |
| 3.3 基于偶氮苯的纳米结构的构造方法 | 第40-43页 |
| 3.3.1 点、线、方形及字母的构造方法 | 第41-42页 |
| 3.3.2 构造不同链长偶氮苯分子的纳米结构 | 第42页 |
| 3.3.3 考察环境因素对DPN过程的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第43-58页 |
| 3.4.1 不同链长偶氮苯硫醇的书写结果对比 | 第43-47页 |
| 3.4.2 环境因素对DPN构造纳米结构的影响 | 第47-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 偶氮苯纳米结构光刺激响应性能的表征 | 第60-70页 |
| 4.1 引言 | 第60页 |
| 4.2 实验部分 | 第60-61页 |
| 4.2.1 原料与仪器 | 第60-61页 |
| 4.2.2 测试与表征 | 第61页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第61-69页 |
| 4.3.1 AFM表征DPN构造纳米宽线结构的光刺激响应性质 | 第61-63页 |
| 4.3.2 基于偶氮苯的方形纳米结构对紫外光的响应性 | 第63-64页 |
| 4.3.3 偶氮苯方形纳米结构可逆的光刺激响应性 | 第64-66页 |
| 4.3.4 纳米级方形图案可重复的光刺激响应性 | 第66-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 结论及展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 附录 | 第80-100页 |
| 在研期间发表的文章 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102页 |
