| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 介孔材料概述 | 第10-14页 |
| 1.1.1 介孔材料 | 第10页 |
| 1.1.2 介孔结构的形成机理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 介孔材料的合成方法 | 第12页 |
| 1.1.4 介孔材料的应用 | 第12-14页 |
| 1.2 TiO_2的光催化研究 | 第14-21页 |
| 1.2.1 TiO_2的光催化研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2.2 TiO_2光催化机理 | 第15-20页 |
| 1.2.3 TiO_2光催化活性的影响因素 | 第20-21页 |
| 1.3 TiO_2光催化剂的改性 | 第21-26页 |
| 1.3.1 贵金属沉积 | 第21-22页 |
| 1.3.2. 复合半导体 | 第22-23页 |
| 1.3.3 离子掺杂 | 第23-24页 |
| 1.3.4 共掺杂 | 第24-25页 |
| 1.3.5 表面光敏化 | 第25页 |
| 1.3.6 超强酸化 | 第25-26页 |
| 1.4 选题的目的、意义及研究内容 | 第26-27页 |
| 1.4.1 选题的目的及意义 | 第26页 |
| 1.4.2 选题的研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 N 掺杂及 Fe, N 共掺杂 TiO_2材料的制备及光催化性质研究 | 第27-43页 |
| 2.1 前言 | 第27-28页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第28-30页 |
| 2.2.1 实验药品与仪器 | 第28-29页 |
| 2.2.2 介孔 TiO_2 的制备 | 第29页 |
| 2.2.3 N 掺杂 TiO_2 的制备 | 第29页 |
| 2.2.4 Fe，N 共掺杂 TiO_2的制备 | 第29页 |
| 2.2.5 测试方法 | 第29-30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-41页 |
| 2.3.1 X 射线衍射分析 | 第30-33页 |
| 2.3.2 扫描电镜 | 第33-34页 |
| 2.3.3 透射电镜 | 第34页 |
| 2.3.4 红外光谱分析 | 第34-36页 |
| 2.3.5 N_2吸脱附测试 | 第36-37页 |
| 2.3.6 光催化测试 | 第37-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第3章 H_3PW_(12)O-(40)/TiO_2的制备及光催化性质研究 | 第43-56页 |
| 3.1 前言 | 第43-44页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第44-47页 |
| 3.2.1 实验药品与仪器 | 第44页 |
| 3.2.2 样品的制备 | 第44-45页 |
| 3.2.3 测试方法 | 第45-47页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第47-55页 |
| 3.3.1 ICP -AES 分析 | 第47页 |
| 3.3.2 X 射线衍射分析 | 第47-48页 |
| 3.3.3 扫描电镜 | 第48-49页 |
| 3.3.4 透射电镜 | 第49-50页 |
| 3.3.5 红外分析 | 第50-51页 |
| 3.3.6 N_2吸脱附 | 第51页 |
| 3.3.7 光催化测试 | 第51-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 致谢 | 第66页 |