| 内容提要 | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-42页 |
| 1.1 多孔阳极氧化铝模板 | 第8-31页 |
| 1.1.0 阳极氧化铝 | 第8-9页 |
| 1.1.1 阳极氧化铝的形成原理 | 第9-14页 |
| 1.1.2 多孔阳极氧化铝的结构 | 第14-17页 |
| 1.1.3 多孔阳极氧化铝的生长 | 第17-23页 |
| 1.1.4 多孔阳极氧化铝的击穿 | 第23页 |
| 1.1.5 自有序多孔阳极氧化铝模板 | 第23-27页 |
| 1.1.6 长程有序多孔阳极氧化铝模板 | 第27-28页 |
| 1.1.7 超薄有序多孔阳极氧化铝模板的掩模版技术 | 第28-31页 |
| 1.2 表面等离子体 | 第31-37页 |
| 1.2.1 表面等离激元 | 第31-34页 |
| 1.2.2 局域表面等离子体 | 第34-36页 |
| 1.2.3 表面增强拉曼散射 | 第36-37页 |
| 1.3 微流控芯片实验室系统 | 第37-40页 |
| 1.4 本论文选题及研究意义 | 第40-42页 |
| 1.4.1 预制图案化阳极氧化铝模板制备纳米点阵列 | 第40-41页 |
| 1.4.2 预制图案化阳极氧化铝模板制备长程有序纳米孔阵列 | 第41页 |
| 1.4.3 纳米点阵列用于表面增强拉曼芯片实验室系统的构建 | 第41-42页 |
| 第2章 超薄多级结构阳极氧化铝模板用于制备纳米点阵列 | 第42-55页 |
| 2.1 背景介绍 | 第42-44页 |
| 2.2 实验部分 | 第44-47页 |
| 2.2.1 多级结构 AAO 模板的制备 | 第44-45页 |
| 2.2.2 超薄多级结构阳极氧化铝膜的制作 | 第45-46页 |
| 2.2.3 纳米点蒸镀 | 第46-47页 |
| 2.2.4 光谱检测 | 第47页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第47-54页 |
| 2.3.1 铝表面的预制图案化 | 第47页 |
| 2.3.2 HUTAM 纳米点阵列制备 | 第47-52页 |
| 2.3.3 HUTAM 纳米点的光谱性质 | 第52-54页 |
| 2.4 小结 | 第54-55页 |
| 第3章 预制图案长程有序阳极氧化铝孔阵列的制备 | 第55-60页 |
| 3.1 背景介绍 | 第55-56页 |
| 3.2 实验部分 | 第56-57页 |
| 3.2.1 聚苯乙烯纳米球的制备 | 第56页 |
| 3.2.2 长程有序 AAO 模板的制备 | 第56-57页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第57-59页 |
| 3.3.1 铝表面的预制图案化 | 第57页 |
| 3.3.2 长程有序 AAO 模板 | 第57-59页 |
| 3.4 小结 | 第59-60页 |
| 第4章 阳极氧化铝模板制备银纳米点阵列用于表面增强拉曼微流控芯片的构建 | 第60-67页 |
| 4.1 背景介绍 | 第60-61页 |
| 4.2 实验部分 | 第61-62页 |
| 4.2.1 纳米点阵列制备 | 第61页 |
| 4.2.2 微流控 SERS 芯片的制备 | 第61-62页 |
| 4.2.3 SERS 检测 | 第62页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第62-66页 |
| 4.3.1 银纳米点阵列的 SERS 增强性能 | 第63-64页 |
| 4.3.2 微流控芯片实验室系统的性能 | 第64-66页 |
| 4.4 小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-87页 |
| 作者简介 | 第87-88页 |
| 攻读硕士期间出版物列表 | 第88-91页 |
| 后记与致谢 | 第91-93页 |
| 项目资助 | 第93-94页 |
| 中文摘要 | 第94-96页 |
| Abstract | 第96-98页 |
