| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 过冷熔体中的枝晶生长 | 第11-18页 |
| 1.1.1 过冷熔体中的深过冷 | 第11页 |
| 1.1.2 枝晶生长的理论研究 | 第11-15页 |
| 1.1.3 枝晶生长的实验研究 | 第15-18页 |
| 1.2 对流对枝晶生长的影响 | 第18-19页 |
| 1.2.1 对流对枝晶生长影响的研究 | 第19页 |
| 1.3 均匀磁场控制对流的研究 | 第19-23页 |
| 1.3.1 均匀磁场抑制对流的研究 | 第20-21页 |
| 1.3.2 均匀磁场促进对流的研究 | 第21-23页 |
| 1.4 选题依据和研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验方案 | 第25-33页 |
| 2.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25-28页 |
| 2.2.1 真空非自耗电弧熔炼炉 | 第25-27页 |
| 2.2.2 均匀磁场下深过冷实验设备 | 第27-28页 |
| 2.3 实验方案 | 第28-29页 |
| 2.3.1 样品制备 | 第28页 |
| 2.3.2 样品的深过冷实验 | 第28-29页 |
| 2.3.3 技术路线 | 第29页 |
| 2.4 实验技术 | 第29-33页 |
| 2.4.1 红外测温技术 | 第30-31页 |
| 2.4.2 高速摄影技术 | 第31-33页 |
| 第3章 均匀磁场下Ni_(90)Si_(10)合金过冷熔体中的枝晶生长动力学 | 第33-45页 |
| 3.1 冷却曲线分析及枝晶生长速率测定 | 第33-35页 |
| 3.1.1 冷却曲线分析 | 第33-34页 |
| 3.1.2 枝晶生长速率测定 | 第34-35页 |
| 3.2 枝晶生长理论分析 | 第35-41页 |
| 3.3 讨论 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 均匀磁场下Ni_(95)Si_5合金过冷熔体中的枝晶生长动力学 | 第45-59页 |
| 4.1 冷却曲线分析及枝晶生长速率测定 | 第45-47页 |
| 4.1.1 冷却曲线分析 | 第45-46页 |
| 4.1.2 枝晶生长速率测定 | 第46-47页 |
| 4.2 枝晶生长理论分析 | 第47-52页 |
| 4.3 讨论 | 第52-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-59页 |
| 第5章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67页 |