摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第13-25页 |
1.1 引言 | 第13页 |
1.2 半导体光催化技术 | 第13-18页 |
1.2.1 半导体光催化原理及特点 | 第13-15页 |
1.2.2 影响光催化活性的因素 | 第15-16页 |
1.2.3 提高光催化活性的途径 | 第16-18页 |
1.3 光催化剂的应用 | 第18-20页 |
1.3.1 杀菌消毒 | 第18页 |
1.3.2 环境治理 | 第18-19页 |
1.3.3 光电化学分解水制氢 | 第19页 |
1.3.4 自清洁涂层 | 第19页 |
1.3.5 金属的光电化学防腐 | 第19-20页 |
1.4 光电化学防腐蚀简介 | 第20-22页 |
1.4.1 金属腐蚀 | 第20-21页 |
1.4.2 光电化学防腐蚀原理 | 第21-22页 |
1.5 选题依据及意义 | 第22-24页 |
1.5.1 选题依据 | 第22-23页 |
1.5.2 选题意义 | 第23-24页 |
1.6 课题的主要研究内容 | 第24-25页 |
2 BiVO_4薄膜的制备、表征及光电化学性能 | 第25-37页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 实验部分 | 第25-29页 |
2.2.1 实验药品及仪器 | 第25-27页 |
2.2.2 实验方法 | 第27页 |
2.2.3 薄膜的表征 | 第27页 |
2.2.4 薄膜的光电化学性能测试 | 第27-28页 |
2.2.5 薄膜的光电化学防腐蚀测试 | 第28-29页 |
2.3 结果与讨论 | 第29-36页 |
2.3.1 煅烧温度对BiVO_4薄膜表面形貌的影响 | 第29-30页 |
2.3.2 煅烧温度对BiVO_4薄膜晶型、晶粒的影响 | 第30-32页 |
2.3.3 煅烧温度对BiVO_4薄膜吸光性能的影响 | 第32页 |
2.3.4 煅烧温度对BiVO_4薄膜光电化学性能的影响 | 第32-34页 |
2.3.5 煅烧温度对BiVO_4薄膜光电化学防腐蚀性能的影响 | 第34-36页 |
2.4 本章小结 | 第36-37页 |
3 W掺杂BiVO_4薄膜的制备、表征及光电化学性能 | 第37-49页 |
3.1 引言 | 第37页 |
3.2 实验部分 | 第37-39页 |
3.2.1 实验药品及仪器 | 第37-38页 |
3.2.2 实验方法 | 第38-39页 |
3.2.3 薄膜的表征 | 第39页 |
3.2.4 薄膜的光电化学性能测试 | 第39页 |
3.2.5 薄膜的光电化学防腐蚀测试 | 第39页 |
3.3 结果与讨论 | 第39-47页 |
3.3.1 W掺杂对BiVO_4薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
3.3.2 W掺杂对BiVO_4薄膜晶型、晶粒的影响 | 第40-43页 |
3.3.3 W掺杂对BiVO_4薄膜吸光性能的影响 | 第43-44页 |
3.3.4 W掺杂对BiVO_4薄膜光电化学性能的影响 | 第44-45页 |
3.3.5 W掺杂对BiVO_4薄膜光电化学防腐蚀性能的影响 | 第45-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-49页 |
4 Mo掺杂BiVO_4薄膜的制备、表征及光电化学性能 | 第49-61页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 实验部分 | 第49-51页 |
4.2.1 实验药品及仪器 | 第49-50页 |
4.2.2 实验方法 | 第50-51页 |
4.2.3 薄膜的表征 | 第51页 |
4.2.4 薄膜的光电化学性能测试 | 第51页 |
4.2.5 薄膜的光电化学防腐蚀测试 | 第51页 |
4.3 结果与讨论 | 第51-60页 |
4.3.1 Mo掺杂对BiVO_4薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
4.3.2 Mo掺杂对BiVO_4薄膜晶型、晶粒的影响 | 第52-55页 |
4.3.3 Mo掺杂对BiVO_4薄膜吸光性能的影响 | 第55-56页 |
4.3.4 Mo掺杂对BiVO_4薄膜光电化学性能的影响 | 第56-58页 |
4.3.5 Mo掺杂对BiVO_4薄膜光电化学防腐蚀性能的影响 | 第58-60页 |
4.4 本章小结 | 第60-61页 |
5 结论与展望 | 第61-65页 |
5.1 结论与创新 | 第61-62页 |
5.1.1 结论 | 第61-62页 |
5.1.2 创新之处 | 第62页 |
5.2 展望 | 第62-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
攻读硕士学位期间所取得的科研及实践成果 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
作者简介 | 第75-76页 |