| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 引言 | 第11-22页 |
| 1.1 新型磁控溅射镀膜技术的发展 | 第11-16页 |
| 1.1.1 磁控靶(即溅射源)的改进 | 第11-13页 |
| 1.1.2 基片架的改进 | 第13-14页 |
| 1.1.3 在镀膜设备中引入增强装置 | 第14-16页 |
| 1.2 等离子体定义及相关理论介绍 | 第16-18页 |
| 1.3 等离子体数值模拟介绍 | 第18-20页 |
| 1.4 课题的研究目的与意义 | 第20-22页 |
| 第2章 辅助阳极的结构设计与实验探究 | 第22-35页 |
| 2.1 辅助阳极技术原理 | 第22页 |
| 2.2 辅助阳极的结构设计 | 第22-29页 |
| 2.2.1 辅助阳极的整体设计思路 | 第22-23页 |
| 2.2.2 辅助阳极的结构设计及实物生产 | 第23-29页 |
| 2.3 辅助阳极的实验过程 | 第29-31页 |
| 2.3.1 实验设备的选择 | 第29-30页 |
| 2.3.2 辅助阳极的安装 | 第30-31页 |
| 2.3.3 实验参数的确定与操作过程 | 第31页 |
| 2.4 辅助阳极实验探究的结果与分析 | 第31-33页 |
| 2.5 辅助阳极实验设备中存在的相对位置问题 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 辉光放电过程中等离子体数值模拟 | 第35-60页 |
| 3.1 模拟软件的选择 | 第35页 |
| 3.2 辅助阳极性能数值模拟的理论基础 | 第35-44页 |
| 3.2.1 磁场模拟的理论基础 | 第36-37页 |
| 3.2.2 等离子体模拟的理论基础 | 第37-43页 |
| 3.2.3 磁场同等离子体进行模块耦合的理论基础 | 第43-44页 |
| 3.3 模拟模块的选择 | 第44页 |
| 3.4 数值模拟模型建立及网格划分 | 第44-49页 |
| 3.4.1 数值模拟模型的建立 | 第44-46页 |
| 3.4.2 模拟模型的网格划分 | 第46-49页 |
| 3.5 无阳极存在时辉光放电等离子体的模拟 | 第49-59页 |
| 3.5.1 放电初始参数的设置 | 第49页 |
| 3.5.2 放电空间内的反应设置 | 第49-50页 |
| 3.5.3 边界条件的设定 | 第50-52页 |
| 3.5.4 等离子体的数值模拟结果与分析 | 第52-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 辅助阳极性能探究 | 第60-77页 |
| 4.1 辅助阳极性能探究模型的正确性验证 | 第60-65页 |
| 4.2 分析模拟结果及实验数据 | 第65-68页 |
| 4.3 辅助阳极性能的探究 | 第68-72页 |
| 4.4 辅助阳极性能探究的模拟结果分析 | 第72-75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 第5章 辅助阳极参数的优化设计 | 第77-98页 |
| 5.1 辅助阳极同溅射靶中心间距离r的优化 | 第77-85页 |
| 5.1.1 辅助阳极同溅射靶中心间距离r的优化过程 | 第77-81页 |
| 5.1.2 辅助阳极同溅射靶中心间距离r的优化模拟结果分析 | 第81-85页 |
| 5.2 辅助阳极电压的优化 | 第85-90页 |
| 5.2.1 辅助阳极电压的优化过程 | 第85-88页 |
| 5.2.2 辅助阳极电压的优化模拟结果分析 | 第88-90页 |
| 5.3 辅助阳极尺寸参数的优化 | 第90-97页 |
| 5.3.1 辅助阳极尺寸参数的优化过程 | 第90-94页 |
| 5.3.2 辅助阳极尺寸的优化模拟结果分析 | 第94-97页 |
| 5.4 本章小结 | 第97-98页 |
| 第6章 结论与展望 | 第98-100页 |
| 6.1 主要结论 | 第98页 |
| 6.2 前景展望 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-104页 |
| 致谢 | 第104-105页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第105页 |