| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 铁电材料概述 | 第11-17页 |
| 1.2.1 铁电材料的发展历史和现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 铁电材料特征与分类 | 第14-17页 |
| 1.3 PZT铁电薄膜的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3.1 锆钛酸铅的晶体结构 | 第17-19页 |
| 1.3.2 PZT铁电薄膜的电畴结构 | 第19-20页 |
| 1.4 铁电薄膜的制备方法 | 第20-25页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第20-22页 |
| 1.4.2 溅射法 | 第22-23页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积法 | 第23页 |
| 1.4.4 金属有机化学气相沉积法 | 第23-24页 |
| 1.4.5 水热合成法 | 第24-25页 |
| 1.5 基于铁电薄膜的器件研究 | 第25-27页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第28-35页 |
| 2.1 实验材料 | 第28-29页 |
| 2.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第29-35页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜分析和X射线谱仪（EDS） | 第29页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪 | 第29页 |
| 2.3.3 傅里叶变换红外光谱分析 | 第29-30页 |
| 2.3.4 拉曼光谱分析 | 第30页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱（XPS) | 第30页 |
| 2.3.6 热重分析（TG) | 第30页 |
| 2.3.7 原子力显微镜 | 第30页 |
| 2.3.8 压电力显微镜 | 第30-35页 |
| 第3章 PZT铁电薄膜制备及性能表征 | 第35-70页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 溶胶-凝胶法制备PZT铁电薄膜的原理 | 第35-36页 |
| 3.3 PZT薄膜制备工艺流程 | 第36-40页 |
| 3.3.1 PZT前驱体配制 | 第37-39页 |
| 3.3.2 基片的准备与清洗 | 第39页 |
| 3.3.3 匀胶 | 第39页 |
| 3.3.4 薄膜热处理 | 第39-40页 |
| 3.4 PZT薄膜制备基本参数的确定 | 第40-44页 |
| 3.4.1 溶胶-凝胶配制参数 | 第40-43页 |
| 3.4.2 旋涂成膜工艺参数 | 第43-44页 |
| 3.5 PZT薄膜表征 | 第44-68页 |
| 3.5.1 红外光谱测试分析 | 第44-45页 |
| 3.5.2 XRD分析测试 | 第45-52页 |
| 3.5.3 微观组织形貌观察 | 第52-57页 |
| 3.5.4 拉曼光谱测试分析 | 第57-58页 |
| 3.5.5 AFM测试分析 | 第58-61页 |
| 3.5.6 热重测试分析 | 第61-62页 |
| 3.5.7 SEM-EDX测试分析 | 第62-63页 |
| 3.5.8 XPS测试分析 | 第63-65页 |
| 3.5.9 最佳参数制备薄膜 | 第65-68页 |
| 3.6 本章小结 | 第68-70页 |
| 第4章 外场作用下PZT铁电薄膜的畴变研究 | 第70-81页 |
| 4.1 引言 | 第70页 |
| 4.2 PZT铁电薄膜原始畴观测 | 第70-73页 |
| 4.2.1 PZT铁电薄膜的光刻 | 第70-71页 |
| 4.2.2 PZT铁电薄膜电畴图 | 第71-73页 |
| 4.3 外加应力下PZT薄膜的畴变观测 | 第73-78页 |
| 4.3.1 PZT铁电薄膜的微纳加工 | 第73-74页 |
| 4.3.2 微纳加工后铁电薄膜的电畴观测与分析 | 第74-78页 |
| 4.4 外加电场下的畴变研究 | 第78-80页 |
| 4.4.1 电场作用下PZT薄膜的电畴结构的翻转和分析 | 第78-79页 |
| 4.4.2 PFM振幅蝴蝶曲线与相位电滞回线分析 | 第79-80页 |
| 4.5 本章小结 | 第80-81页 |
| 结论 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 致谢 | 第90页 |