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尖晶石型复合金属氧化物的电子性能研究

摘要第2-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-14页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 非晶氧化物TFT的发展历程第9-11页
    1.3 本文研究的目的和内容第11-13页
    1.4 本章小结第13-14页
第2章 第一性原理计算方法及相关物理量第14-24页
    2.1 理论基础第14-18页
        2.1.1 Born-Oppenheimer近似(绝热近似)第14-15页
        2.1.2 密度泛函理论第15-18页
    2.2 计算软件简介第18页
    2.3 计算参数设置及相关物理参量第18-23页
        2.3.1 布里渊区K空间取样第18-19页
        2.3.2 平面波截断能第19-20页
        2.3.3 缺陷形成能第20-22页
        2.3.4 能带结构和态密度第22页
        2.3.5 Mulliken布居分析第22-23页
        2.3.6 差分电荷密度第23页
    2.4 本章小结第23-24页
第3章 本征态MgAl_2O_4及Mg_2SnO_4的第一性原理计算第24-38页
    3.1 计算模型的建立第24-26页
    3.2 本征态正尖晶石型MgAl_2O_4的几何结构与电子结构第26-32页
    3.3 本征态正尖晶石型Mg_2SnO_4的几何结构与电子结构第32-36页
    3.4 本章小结第36-38页
第4章 MgAl_2O_4:Sn及Mg_2SnO_4:Al的第一性原理计算第38-59页
    4.1 计算模型的建立第38-40页
    4.2 Sn、Al杂质缺陷的形成能第40页
    4.3 Sn替位掺杂MgAl_2O_4的几何结构和电子结构第40-49页
    4.4 Al替位掺杂Mg_2SnO_4的几何结构和电子结构第49-58页
    4.5 本章小结第58-59页
第5章 总结与展望第59-62页
    5.1 研究总结第59-61页
    5.2 研究展望第61-62页
参考文献第62-68页
致谢第68页

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