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以有机膦酸/氧化铝为绝缘层的低伏柔性有机薄膜晶体管

致谢第7-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第16-34页
    1.1 有机薄膜晶体管简介第16页
    1.2 低伏有机薄膜晶体管第16-32页
        1.2.1 低伏有机薄膜晶体管的实现方法第16-18页
        1.2.2 低伏有机薄膜晶体管的绝缘层第18-30页
        1.2.3 低伏有机薄膜晶体管绝缘层的电学性能表征第30-32页
    1.3 低伏有机薄膜晶体管存在的问题及挑战第32页
    1.4 本论文有关低伏有机薄膜晶体管的工作内容第32-34页
第二章 阳极氧化铝/自组装单分子层制备低伏有机薄膜晶体管及其在光传感中的应用第34-47页
    2.1 引言第34-35页
    2.2 实验第35-37页
        2.2.1 超光滑的铝薄膜的剥离第35页
        2.2.2 氧化铝绝缘层的制备第35-36页
        2.2.3 正十八烷基膦酸自组装单分子层的生长第36页
        2.2.4 器件的制作与测试第36-37页
        2.2.5 光响应测试第37页
    2.3 结果与讨论第37-46页
        2.3.1 超光滑表面铝薄膜的原子力显微镜图像和扫描电子显微镜表征第37-38页
        2.3.2 阳极氧化电流时间分析以及氧化铝表面形貌及厚度表征第38-39页
        2.3.3 氧化铝漏电性能表征及电容测试第39-40页
        2.3.4 基于DNTT小分子半导体低伏有机薄膜晶体管的电学性能表征第40-42页
        2.3.5 基于DNTT小分子低伏有机薄膜晶体管的光响应性能表征第42-43页
        2.3.6 基于PBIBDF-BT共轭聚合物低伏有机薄膜晶体管的电学性能表征第43-45页
        2.3.7 基于PBIBDF-BT共轭聚合物有机薄膜晶体管器件的光响应性能表征第45-46页
    2.4 本章小结第46-47页
第三章 功能性单分子层的合成与表征及其在低伏有机薄膜晶体管中的应用第47-63页
    3.1 引言第47-48页
    3.2 实验第48-50页
        3.2.1 (6-叠氮基己基)膦酸的合成步骤第48页
        3.2.2 (6-叠氮基己基)膦酸及炔端基PVP在氧化铝表面的自组装生长流程图第48-49页
        3.2.3 (6-叠氮基己基)膦酸及炔端基PVP在氧化铝表面的自组装生长结构图第49-50页
        3.2.4 基于并五苯有机薄膜晶体管器件制作及电学性能表征第50页
    3.3 结果分析与讨论第50-62页
        3.3.1 原材料及合成产物的核磁共振氢谱图分析第50-54页
        3.3.2 自组装多层分子的接触角测试及X射线光电子能谱(XPS)分析第54-57页
        3.3.3 自组装多层分子的全反射-傅里叶红外光谱(ATR-FTIR)表征第57-58页
        3.3.4 功能性多分子层的原子力显微镜(AFM)的形貌表征第58-60页
        3.3.5 无机AlOx表面修饰功能性多分子层作为绝缘层的电容测试第60页
        3.3.6 基于并五苯小分子半导体低伏有机薄膜晶体管的电学性能表征第60-62页
    3.4 本章小结第62-63页
第四章 总结第63-65页
参考文献第65-75页
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况第75页
    1) 发表的学术论文(含专利和软件著作权)第75页

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