| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 超导电性的发现 | 第13-14页 |
| 1.2 百年超导回顾 | 第14-16页 |
| 1.3 超导微观机理 | 第16-19页 |
| 1.3.1 二流体模型 | 第16-17页 |
| 1.3.2 London理论 | 第17页 |
| 1.3.3 Pippard非局域理论 | 第17-18页 |
| 1.3.4 G-L理论 | 第18页 |
| 1.3.5 BCS理论 | 第18-19页 |
| 1.4 新型BiS_2基超导体研究概况 | 第19-24页 |
| 1.4.1 BiS_2基超导体多晶研究 | 第20-22页 |
| 1.4.2 BiS_2基超导体单晶研究 | 第22-24页 |
| 1.5 论文研究内容和结构 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法及性能表征 | 第26-34页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验方法 | 第26-27页 |
| 2.2.1 固相反应法 | 第26-27页 |
| 2.2.2 助溶剂法 | 第27页 |
| 2.3 实验试剂和仪器 | 第27-28页 |
| 2.3.1 实验试剂 | 第27-28页 |
| 2.3.2 实验仪器 | 第28页 |
| 2.4 性能表征 | 第28-30页 |
| 2.4.1 晶体结构 | 第28页 |
| 2.4.2 显微结构和表面形貌 | 第28-29页 |
| 2.4.3 磁性能分析 | 第29-30页 |
| 2.4.4 电性能分析 | 第30页 |
| 2.5 La_(1-x)Ta_xOBiS_2超导体单晶生长 | 第30-33页 |
| 2.5.1 前驱粉末合成实验 | 第30-31页 |
| 2.5.2 单晶生长实验 | 第31-33页 |
| 2.5.3 单晶生长实验影响因素 | 第33页 |
| 2.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 La_(1-x)Ta_xOBiS_2单晶生长及性能 | 第34-45页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第34-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 LaOBiS_2超导电性研究 | 第45-56页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 实验方法 | 第46页 |
| 4.3 纯样LaOBiS_2多晶实验结果与讨论 | 第46-49页 |
| 4.4 纯样LaOBiS_2单晶实验结果与讨论 | 第49-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 热处理温度对La_(0.9)Ta_(0.1)OBiS_2多晶成相和性能的影响 | 第56-66页 |
| 5.1 引言 | 第56-57页 |
| 5.2 实验方法 | 第57页 |
| 5.3 实验结果及讨论 | 第57-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第74页 |
