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单壁碳纳米管阵列制备及其粘附力研究

中文摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-18页
   ·碳纳米管的发现第10页
   ·碳纳米管的分类和结构第10-13页
     ·碳纳米管的分类第10-12页
     ·碳纳米管的结构第12-13页
   ·碳纳米管的性能以及应用第13-17页
     ·碳纳米管的力学性能及应用第14-16页
     ·碳纳米管的电学性能及应用第16页
     ·碳纳米管的热学性能及应用第16-17页
   ·本课题开展的工作和意义第17-18页
第二章 碳纳米管的生长制备第18-34页
   ·碳纳米管制备方法综述第18-21页
     ·电弧放电法第18-19页
     ·激光蒸发法第19页
     ·化学气相沉积法第19页
     ·其他的制备方法第19-20页
     ·碳纳米管的生长机理第20页
     ·水平单壁碳纳米管阵列生长研究进展第20-21页
   ·定向单壁碳纳米管阵列的生长制备第21-23页
     ·化学气相沉积法(CVD)基本原理以及所需的仪器设备第21-22页
     ·催化剂及其配制第22页
     ·不锈钢金属板的设计第22-23页
   ·石英基底上碳纳米管的生长第23-25页
     ·石英基底预处理第23-24页
     ·催化剂的沉积第24页
     ·碳纳米管生长第24-25页
   ·碳纳米管的表征分析第25-31页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征及分析第25-26页
     ·原子力显微镜(AFM)表征及分析第26-27页
     ·拉曼表征及分析第27-30页
     ·实验结果与讨论第30-31页
   ·蓝宝石基底上碳纳米管阵列的生长制备研究第31-33页
     ·蓝宝石基底预处理第31页
     ·催化剂沉积第31页
     ·抛光基底与不抛光基底上碳纳米管的生长第31-32页
     ·实验结果与讨论第32-33页
   ·本章小结第33-34页
第三章 碳纳米管粘附力研究第34-42页
   ·引言第34-35页
   ·理论模型和公式推导第35-38页
   ·结果分析第38-41页
   ·本章小结第41-42页
第四章 实验部分第42-51页
   ·光学曝光工艺过程和光刻胶基本性质简介第42-44页
     ·光学曝光工艺过程第42-44页
     ·光刻胶的基本性质第44页
   ·碳纳米管悬空结构制备第44-50页
     ·光刻工艺第45-47页
     ·腐蚀第47-48页
     ·实验结果及分析第48-50页
   ·本章小结第50-51页
第五章 总结与展望第51-53页
   ·论文创新点第51-52页
   ·研究展望第52-53页
参考文献第53-59页
攻读硕士学位期间发表的论文第59-60页
致谢第60-61页

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