中频磁控溅射以及ECR-CVD制备DLC薄膜的新工艺研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 DLC薄膜结构 | 第9-10页 |
| 1.2 DLC的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.2.1 离子束沉积 | 第10-11页 |
| 1.2.2 阴极弧法 | 第11页 |
| 1.2.3 脉冲激光沉积 | 第11页 |
| 1.2.4 溅射沉积法 | 第11-12页 |
| 1.2.5 等离子体增强化学气相沉积 | 第12-13页 |
| 1.3 DLC薄膜的硬度以及应用 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的研究目的与意义 | 第14-15页 |
| 1.5 本课题的创新性 | 第15-16页 |
| 1.6 课题研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 样品的制备与表征 | 第17-27页 |
| 2.1 微波ECR等离子体源的组成特点 | 第17-18页 |
| 2.2 样品的制备 | 第18-22页 |
| 2.2.1 基底材料准备及清洗 | 第18页 |
| 2.2.2 磁控溅射样品制备 | 第18-21页 |
| 2.2.3 ECR-CVD样品制备 | 第21-22页 |
| 2.3 样品的表征 | 第22-27页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第22页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第22页 |
| 2.3.3 拉曼光谱 | 第22-23页 |
| 2.3.4 纳米压痕仪 (硬度和弹性模量) | 第23-26页 |
| 2.3.5 纳米压痕仪 (膜基结合力) | 第26-27页 |
| 第3章 磁控溅射制备DLC薄膜性能研究 | 第27-41页 |
| 3.1 薄膜沉积速率 | 第27-28页 |
| 3.2 薄膜表面形貌与粗糙度 | 第28-30页 |
| 3.3 磁控溅射制备DLC薄膜的结构特征 | 第30-35页 |
| 3.4 磁控溅射制备DLC薄膜的硬度 | 第35-38页 |
| 3.5 磁控溅射制备DLC薄膜的结合力 | 第38-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 ECR-CVD制备DLC薄膜性能研究 | 第41-48页 |
| 4.1 薄膜沉积速率 | 第41页 |
| 4.2 薄膜表面形貌 | 第41-42页 |
| 4.3 ECR-CVD制备DLC薄膜的结构特征 | 第42-44页 |
| 4.4 ECR-CVD制备DLC薄膜的硬度 | 第44-46页 |
| 4.5 ECR-CVD制备DLC薄膜的结合力 | 第46-47页 |
| 4.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 退火对DLC薄膜性能的影响研究 | 第48-57页 |
| 5.1 退火对DLC薄膜的表面形貌影响 | 第48-49页 |
| 5.2 退火对DLC薄膜的结构影响 | 第49-51页 |
| 5.3 退火对DLC薄膜的硬度影响 | 第51-53页 |
| 5.4 退火对膜基结合力的影响 | 第53-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第6章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
