| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.1 石英各向异性湿法刻蚀研究现状 | 第12页 |
| 1.2.2 晶体各向异性刻蚀模拟方法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 Level Set方法简介 | 第13-14页 |
| 1.3 论文研究内容 | 第14-15页 |
| 1.4 论文组织结构 | 第15-17页 |
| 第二章 石英湿法刻蚀基础及形貌模拟 | 第17-28页 |
| 2.1 石英晶体 | 第17-19页 |
| 2.1.1 石英晶体结构 | 第17-19页 |
| 2.1.2 石英晶面表示 | 第19页 |
| 2.2 石英湿法刻蚀及速度测量 | 第19-23页 |
| 2.2.1 石英湿法刻蚀 | 第19-21页 |
| 2.2.2 刻蚀速度测量 | 第21-23页 |
| 2.3 各向异性湿法刻蚀形貌预测 | 第23-27页 |
| 2.3.1 刻蚀形貌模拟方法 | 第23页 |
| 2.3.2 几何方法形貌模拟的基本规则 | 第23-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 Level Set方法在晶体湿法刻蚀模拟中的应用 | 第28-47页 |
| 3.1 Level Set方程 | 第28-29页 |
| 3.2 数值求解 | 第29-33页 |
| 3.2.1 差分格式建立 | 第29-30页 |
| 3.2.2 空间离散格式构建 | 第30-32页 |
| 3.2.3 重新初始化 | 第32-33页 |
| 3.3 空间坐标系转换 | 第33-35页 |
| 3.4 Level Set方法与刻蚀形貌几何演化规则 | 第35-38页 |
| 3.5 基于Level Set方法硅湿法刻蚀三维形貌模拟 | 第38-46页 |
| 3.5.1 球形硅湿法刻蚀模拟研究 | 第38-41页 |
| 3.5.2 有掩膜(001)硅片湿法刻蚀模拟 | 第41-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 石英湿法刻蚀实验研究 | 第47-58页 |
| 4.1 石英球湿法刻蚀实验研究 | 第47-49页 |
| 4.2 Z切石英掩膜版设计 | 第49-52页 |
| 4.2.1 基于Level Set方法Z切石英刻蚀模拟 | 第49-51页 |
| 4.2.2 掩膜版设计 | 第51-52页 |
| 4.3 Z切石英湿法刻蚀实验 | 第52-56页 |
| 4.4 刻蚀结果观察与讨论 | 第56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 实验结果分析与讨论 | 第58-76页 |
| 5.1 凹槽侧壁特征晶面研究 | 第58-67页 |
| 5.1.1 侧壁特征晶面数据测量 | 第58-61页 |
| 5.1.2 侧壁演化规律 | 第61-62页 |
| 5.1.3 深宽比 | 第62-64页 |
| 5.1.4 掩膜边线选择 | 第64-66页 |
| 5.1.5 侧壁刻蚀形貌预测 | 第66-67页 |
| 5.2 凹槽形貌特征研究 | 第67-70页 |
| 5.2.1 凹槽特征晶面演化规律 | 第67-69页 |
| 5.2.2 凹槽刻蚀形貌模拟 | 第69-70页 |
| 5.3 凸台形貌特征研究 | 第70-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 总结与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 论文的主要工作 | 第76页 |
| 6.2 展望 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 作者简介 | 第82页 |
