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离子膜蚀刻机的安全控制系统研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-16页
    1.1 离子膜蚀刻机研究背景第10-12页
    1.2 国内外离子膜蚀刻技术的发展状况第12-13页
    1.3 课题研究的理论意义和应用前景第13-14页
    1.4 课题研究的内容第14-16页
第2章 离子膜蚀刻机控制系统概况第16-22页
    2.1 离子膜蚀刻机控制系统的设计理念第16-17页
    2.2 仪器机械设计概述第17-19页
    2.3 控制系统结构第19-20页
    2.4 仪器系统特点第20-22页
第3章 离子膜蚀刻机温度控制系统第22-42页
    3.1 温度控制系统的理论研究第22页
    3.2 温度控制系统的框架设计第22-23页
    3.3 温度控制系统硬件电路的设计第23-33页
        3.3.1 C8051F340芯片及其外围设计第24-27页
        3.3.2 温度变送模块第27-29页
        3.3.3 三相交流调功电路第29-31页
        3.3.4 键盘与液晶模块第31-33页
    3.4 温度控制系统软件设计第33-42页
        3.4.1 主程序模块第33-35页
        3.4.2 温度采集模块第35-36页
        3.4.3 数字滤波模块第36-37页
        3.4.4 PID控制模块第37-41页
        3.4.5 键盘与液晶模块第41-42页
第4章 离子膜蚀刻机其他功能参数的控制第42-46页
    4.1 蚀刻池液位的监测第42页
    4.2 伺服电机的控制第42-43页
    4.3 超声波纠偏仪的控制第43-44页
    4.4 放卷收卷张力的控制第44-45页
    4.5 浊液的监测第45-46页
第5章 实验效果与数据分析第46-54页
    5.1 蚀刻池恒温系统模型的确定第46-47页
    5.2 PID控制的MATLAB仿真第47-50页
    5.3 PID控制效果第50-54页
第6章 总结和展望第54-56页
    6.1 总结第54-55页
    6.2 展望第55-56页
参考文献第56-60页
作者在就读学位期间的科研成果第60-72页
致谢第72页

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