| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 二维材料的研究背景与发展方向 | 第10-11页 |
| 1.2 二维石墨烯的研究历史与现状 | 第11-14页 |
| 1.2.1. 石墨烯的研究背景 | 第11页 |
| 1.2.2. 石墨烯的制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2.3. 石墨烯的结构与基本特性 | 第12-14页 |
| 1.2.4. 石墨烯的发展前景 | 第14页 |
| 1.3 过渡金属硫化物-二硫化钼等的研究现状与性能调控 | 第14-16页 |
| 1.3.1. 过渡金属硫化物的研究进展 | 第14页 |
| 1.3.2. 二硫化钼的基本理化性质 | 第14-15页 |
| 1.3.3. 二硫化钼的制备方法 | 第15页 |
| 1.3.4. 二硫化钼的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 Ⅳ族二维材料-锡烯等的研究现状与性能调控 | 第16-18页 |
| 1.5 本文安排 | 第18-20页 |
| 第二章 计算方法与理论 | 第20-26页 |
| 2.1. 密度泛函理论 | 第20-22页 |
| 2.1.1. Hobenberg-Kohn定理 | 第20-22页 |
| 2.1.2. Kohn-sham方程 | 第22页 |
| 2.2. 交换关联泛函 | 第22-24页 |
| 2.2.1. 局域密度近似(LDA) | 第23页 |
| 2.2.2. 广义梯度近似(GGA) | 第23-24页 |
| 2.2.3. 范德华(van der Waals: vdW)修正 | 第24页 |
| 2.3. 赝势 | 第24页 |
| 2.4. 本文所使用的主要计算方法 | 第24-25页 |
| 2.4.1. 建立模型 | 第24-25页 |
| 2.4.2. 计算 | 第25页 |
| 2.5. 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 关于MoS_2掺杂Li原子的电子结构调制研究 | 第26-35页 |
| 3.1. MoS_2掺杂Li原子的计算方法与模型 | 第26-27页 |
| 3.1.1 MoS_2掺杂Li原子的计算方法 | 第26页 |
| 3.1.2 MoS_2掺杂Li原子理论模型 | 第26-27页 |
| 3.2. MoS_2掺杂Li原子的结构及其稳定性 | 第27-31页 |
| 3.3. MoS_2掺杂Li原子的电子结构 | 第31-34页 |
| 3.3.1 MoS_2掺杂Li原子的能带结构与态密度 | 第31-33页 |
| 3.3.2 差分电荷密度 | 第33-34页 |
| 3.4. 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 关于stanene/WS_2异质结构的电子结构调制研究 | 第35-44页 |
| 4.1. stanene/WS_2异质结构的计算方法与模型 | 第35-38页 |
| 4.1.1 stanene/WS_2异质结构的计算方法 | 第35页 |
| 4.1.2 stanene/WS_2异质结构的几何结构及其稳定性 | 第35-38页 |
| 4.2. stanene/WS_2异质结构的电子结构 | 第38-40页 |
| 4.2.1 stanene/WS_2异质结构的能带结构 | 第38-39页 |
| 4.2.2 stanene/WS_2异质结构态密度 | 第39页 |
| 4.2.3 stanene/WS_2异质结构差分电荷密度 | 第39-40页 |
| 4.3. stanene/WS_2异质结构的能量带隙与狄拉克点的调节 | 第40-42页 |
| 4.4. stanene/WS_2异质结构的有效质量的调节 | 第42页 |
| 4.5. 本章小结 | 第42-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第54页 |
