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单/双涂层堇青石整体式催化剂的制备及其NH3-SCO性能研究

摘要第8-10页
ABSTRACT第10-11页
引言第15-17页
第一章 综述第17-31页
    1.1 氨气的性质、来源与危害第17-18页
        1.1.1 氨气的性质第17页
        1.1.2 氨气的来源第17-18页
        1.1.3 氨气的危害第18页
    1.2 氨气的处理技术第18-20页
        1.2.1 吸附法第18-19页
        1.2.2 吸收法第19页
        1.2.3 生物法第19页
        1.2.4 光催化法第19页
        1.2.5 催化分解法第19-20页
        1.2.6 选择性催化氧化法第20页
    1.3 氨选择性催化氧化反应的机理第20页
    1.4 氨选择性催化氧化反应催化剂的研究进展第20-25页
        1.4.1 贵金属催化剂第21-23页
        1.4.2 过渡金属催化剂第23-24页
        1.4.3 复合氧化物催化剂第24-25页
    1.5 整体式催化剂的研究进展第25-28页
        1.5.1 整体式催化剂载体第26-27页
        1.5.2 整体式催化剂活性组分涂层制备方法第27-28页
        1.5.3 整体式催化剂的特点第28页
    1.6 本课题的研究目的和内容第28-31页
        1.6.1 研究目的第28-29页
        1.6.2 本课题研究内容第29-31页
第二章 实验部分第31-37页
    2.1 化学试剂、实验仪器和实验气体第31-33页
    2.2 催化剂的活性评价第33-34页
    2.3 NH_3催化氧化活性评价装置第34页
    2.4 催化剂的表征第34-37页
        2.4.1 H_2程序升温还原(H_2-TPR)测试第34页
        2.4.2 X射线衍射(XRD)第34-35页
        2.4.3 N_2吸附-脱附测定第35页
        2.4.4 扫描电子显微镜分析(SEM)第35-37页
第三章 单涂层整体式催化剂的性能研究第37-57页
    3.1 前言第37页
    3.2 催化剂的制备第37-39页
    3.3 单涂层整体式催化剂性能评价第39-42页
    3.4 X射线衍射(XRD)分析第42-44页
    3.5 整体式催化剂的SEM分析第44-48页
    3.6 比表面积和N_2吸脱附曲线第48-53页
    3.7 H_2程序升温还原(H_2-TPR)分析第53-55页
    3.8 本章小结第55-57页
第四章 双涂层整体式催化剂的性能研究第57-73页
    4.1 前言第57页
    4.2 催化剂的制备第57-58页
    4.3 双涂层整体式催化剂的SEM图像分析第58-59页
    4.4 单涂层和双涂层整体式催化剂的性能考察第59-64页
    4.5 不同外涂层整体式催化剂的性能考察第64-66页
    4.6 不同内外层涂覆量整体式催化剂的性能考察第66-70页
    4.7 不同内涂层整体式催化剂的性能考察第70-71页
    4.8 本章小结第71-73页
第五章 结论与展望第73-75页
    5.1 结论第73-74页
    5.2 展望第74-75页
致谢第75-77页
参考文献第77-87页
附录第87-89页
    附录A 硕士研究生期间研究成果第87-89页
    附录B 硕士研究生期间参与的科研项目第89页

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