| 摘要 | 第1-6页 |
| abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·金属软磁薄膜材料应用及研究现状 | 第12-15页 |
| ·软磁材料发展 | 第12-13页 |
| ·金属软磁薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·金属软磁薄膜高频磁性能的研究现状 | 第14-15页 |
| ·薄膜的高频磁性理论 | 第15-21页 |
| ·Snoek极限 | 第15-16页 |
| ·磁各向异性 | 第16-18页 |
| ·铁磁共振频率 | 第18-19页 |
| ·磁性薄膜磁各向异性与铁磁共振频率的关系 | 第19-20页 |
| ·LLG模型 | 第20-21页 |
| ·课题目的、意义及研究内容 | 第21-23页 |
| ·课题选题 | 第21页 |
| ·选题意义 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21页 |
| ·课题创新点 | 第21-23页 |
| 2 样品的制备与表征方法 | 第23-33页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第23-26页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| ·薄膜生长原理 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·样品的测试与表征 | 第26-33页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第28页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第28-29页 |
| ·矢量网络分析仪(VNA) | 第29-31页 |
| ·四探针法测电阻率 | 第31-33页 |
| 3 NiFe单层膜样品的制备及性能研究 | 第33-39页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验 | 第33-34页 |
| ·单层膜样品性能表征及分析 | 第34-38页 |
| ·单层膜样品的形貌与结构表征 | 第34-35页 |
| ·单层膜表面成分分析 | 第35-36页 |
| ·单层膜样品的静态磁性与高频磁性分析 | 第36-37页 |
| ·单层膜样品的电阻率分析 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 4 [NiFe/NiFeO]_10多层膜样品的制备及结构表征 | 第39-44页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·多层膜样品的制备 | 第39-40页 |
| ·多层膜样品的结构表征 | 第40-43页 |
| ·多层膜样品的XRD分析 | 第40-41页 |
| ·多层膜样品的TEM表征 | 第41-42页 |
| ·多层膜样品的表面形貌 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 5 [NiFe/NiFeO]_10多层膜的静态磁性及微波电磁性能研究 | 第44-50页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验 | 第44页 |
| ·实验结果及分析 | 第44-49页 |
| ·多层膜样品的静态磁性 | 第44-46页 |
| ·多层膜样品的饱和磁化强度与电阻率 | 第46-47页 |
| ·多层膜样品的微波性能 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第60页 |