反应磁控共溅射金属掺杂的V2O5薄膜的制备及特性研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-23页 |
| ·V_2O_5薄膜的结构特性及研究进展 | 第17-20页 |
| ·V_2O_5薄膜的结构与相关性能 | 第17-18页 |
| ·V_2O_5薄膜的研究进展 | 第18-20页 |
| ·金属掺杂V_2O_5薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
| ·论文的主要内容及研究意义 | 第21-23页 |
| 第二章 V_2O_5薄膜的制备与表征方法 | 第23-27页 |
| ·V_2O_5薄膜的制备方法 | 第23-24页 |
| ·V_2O_5薄膜的结构分析 | 第24页 |
| ·V_2O_5薄膜的成分分析 | 第24-25页 |
| ·V_2O_5薄膜的表面形貌分析 | 第25页 |
| ·V_2O_5薄膜的光学特性测试 | 第25-26页 |
| ·V_2O_5薄膜的电学特性测试 | 第26页 |
| ·V_2O_5薄膜的磁学特性测试 | 第26-27页 |
| 第三章 V_2O_5薄膜的制备及其特性研究 | 第27-46页 |
| ·V_2O_5薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·V_2O_5薄膜的结构特性 | 第28-35页 |
| ·基底温度对制备V_2O_5薄膜结构的影响 | 第28-30页 |
| ·溅射功率对制备V_2O_5薄膜结构的影响 | 第30-31页 |
| ·工作压强对制备V_2O_5薄膜结构的影响 | 第31-32页 |
| ·氧气流量百分比对制备V_2O_5薄膜结构的影响 | 第32-34页 |
| ·退火过程对V_2O_5薄膜的结构的影响 | 第34-35页 |
| ·V_2O_5薄膜的物相分析 | 第35-38页 |
| ·V_2O_5薄膜的拉曼光谱 | 第35-37页 |
| ·V_2O_5的XPS光谱 | 第37-38页 |
| ·V_2O_5薄膜的表面形貌特性 | 第38-42页 |
| ·溅射功率对制备的V_2O_5薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·工作压强对制备的V_2O_5薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·基底温度对制备的V_2O_5薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·退火过程对制备的V_2O_5薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·V_2O_5薄膜的电学特性 | 第42-43页 |
| ·V_2O_5薄膜的光学特性 | 第43-46页 |
| 第四章 金属掺杂V_2O_5薄膜的制备及其特性 | 第46-71页 |
| ·金属掺杂V_2O_5薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的特性研究 | 第47-54页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的结构特性 | 第47-49页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的成分分析 | 第49-51页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的表面形貌特性 | 第51-52页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的电学性能 | 第52页 |
| ·Ti掺杂V_2O_5薄膜的光学性能 | 第52-54页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的特性研究 | 第54-61页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的结构特性 | 第54-57页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的成分分析 | 第57-58页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的表面形貌特性 | 第58-59页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的电学性能 | 第59-60页 |
| ·Zn掺杂V_2O_5薄膜的光学性能 | 第60-61页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的特性研究 | 第61-71页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的结构特性 | 第61-64页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的成分分析 | 第64-65页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的表面形貌特性 | 第65-66页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的电学特性 | 第66页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的光学性能 | 第66-68页 |
| ·Co掺杂V_2O_5薄膜的磁学性能 | 第68-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第80页 |
