摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·透明陶瓷研究背景与发展现状 | 第10-13页 |
·发展过程 | 第10-11页 |
·研究现状 | 第11-12页 |
·透明陶瓷发展趋势 | 第12-13页 |
·影响陶瓷透明度的因素 | 第13-18页 |
·原料 | 第13-14页 |
·添加剂 | 第14-15页 |
·气孔率 | 第15-16页 |
·微观结构 | 第16页 |
·陶瓷烧成工艺 | 第16-17页 |
·表面加工粗糙度 | 第17页 |
·制备透明陶瓷 | 第17-18页 |
·透明氧化铝陶瓷 | 第18-21页 |
·氧化铝原料粉体的制备 | 第18-20页 |
·氧化铝陶瓷的烧成 | 第20-21页 |
·论文主要研究内容 | 第21-22页 |
第2章 实验原理与研究方法 | 第22-33页 |
·原料制备工艺原理 | 第22-24页 |
·热解法 | 第22页 |
·熔盐法 | 第22-23页 |
·模板生长 | 第23-24页 |
·晶粒定向生长技术 | 第24页 |
·成型工艺及原理 | 第24-30页 |
·流延成型 | 第25-28页 |
·模压成型 | 第28-29页 |
·等静压成型 | 第29-30页 |
·分析测试方法 | 第30-33页 |
·物相组成和织构分析 | 第30-31页 |
·微观结构分析 | 第31页 |
·热重和差示热分析 | 第31页 |
·收缩率测试 | 第31-32页 |
·密度测试 | 第32页 |
·红外透过率测试 | 第32页 |
·显微硬度测试 | 第32-33页 |
第3章 Al_2O_3纳米粉体和MgAL_2O_4模板制备与表征 | 第33-47页 |
·前驱体及Al_2O_3 纳米粉体制备与表征 | 第33-39页 |
·沉淀法制备前驱体 | 第33页 |
·影响前驱体的因素 | 第33-35页 |
·制备前驱体及纳米氧化铝粉体过程 | 第35-36页 |
·前驱体及纳米氧化铝粉体表征 | 第36-39页 |
·MgAL_2O_4 模板的制备 | 第39-46页 |
·熔盐法制备MgAL_2O_4 模板 | 第39-40页 |
·产物表征与分析 | 第40-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第4章 Al_2O_3/MgAL_2O_4陶瓷的制备与性能研究 | 第47-68页 |
·陶瓷坯体成型 | 第47-53页 |
·流延成型 | 第47-53页 |
·模压和等静压成型 | 第53页 |
·陶瓷烧成 | 第53-55页 |
·陶瓷低温预烧 | 第54-55页 |
·陶瓷的高温烧结 | 第55页 |
·陶瓷组织结构分析 | 第55-61页 |
·陶瓷物相组成及织构分析 | 第56-57页 |
·陶瓷元素分布分析 | 第57页 |
·显微组织结构分析 | 第57-61页 |
·陶瓷性能测试分析 | 第61-66页 |
·陶瓷的密度和收缩率 | 第61-63页 |
·陶瓷硬度分析 | 第63-64页 |
·陶瓷红外透过率 | 第64-66页 |
·待进一步研究和改进的问题 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
结论 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
个人简历 | 第76页 |