摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-30页 |
·研究背景 | 第15-17页 |
·Ir涂层制备方法国内外研究现状 | 第17-21页 |
·熔盐电镀沉积 | 第17-18页 |
·金属醇盐化学气相沉积 | 第18-19页 |
·物理气相沉积 | 第19-20页 |
·双层辉光等离子表面冶金技术 | 第20-21页 |
·Ir涂层制备方法存在问题及发展趋势 | 第21-23页 |
·存在问题 | 第21-22页 |
·发展趋势 | 第22-23页 |
·Ir涂层生长模型国内外研究现状及发展趋势 | 第23-28页 |
·研究现状 | 第23-27页 |
·PVD Ir涂层生长模型 | 第23-26页 |
·CVD Ir涂层生长模型 | 第26-27页 |
·发展趋势 | 第27-28页 |
·本课题的研究意义和研究内容 | 第28-30页 |
·研究意义 | 第28页 |
·研究内容 | 第28-30页 |
第二章 实验部分 | 第30-40页 |
·原材料 | 第30页 |
·沉积设备及其关键参数 | 第30-32页 |
·沉积工艺过程 | 第32页 |
·沉积实验方案 | 第32-33页 |
·结合力表征 | 第33-35页 |
·硬度和弹性模量表征 | 第35-36页 |
·残余应力表征 | 第36-37页 |
·涂层高温处理 | 第37-38页 |
·相成分鉴定 | 第38页 |
·微观织构表征 | 第38-39页 |
·微观结构表征 | 第39-40页 |
第三章 Ir涂层的组织结构及生长机理研究 | 第40-75页 |
·涂层的组织结构 | 第40-45页 |
·基体对涂层组织结构的影响 | 第45-47页 |
·工艺参数对涂层组织结构的影响 | 第47-52页 |
·基体电压对涂层组织结构的影响 | 第47-48页 |
·靶材电压对涂层组织结构的影响 | 第48-50页 |
·工作气压对涂层组织结构的影响 | 第50-52页 |
·等离子体对涂层组织结构的影响 | 第52-57页 |
·涂层与基体界面形成过程 | 第57-60页 |
·<110>织构形成机制 | 第60-70页 |
·涂层的生长机理 | 第70-73页 |
·本章小结 | 第73-75页 |
第四章 Ir涂层的力学性能研究 | 第75-81页 |
·硬度和弹性模量 | 第75-76页 |
·结合力 | 第76-78页 |
·残余应力 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-81页 |
第五章 Ir涂层高温微孔形成机理及掺Zr对其结构性能影响研究 | 第81-105页 |
·Ir涂层的高温微孔形成机理 | 第81-91页 |
·涂层经高温真空处理微孔形成机理 | 第81-84页 |
·涂层经高温氧化微孔形成机理 | 第84-87页 |
·涂层经高温烧蚀微孔形成机理 | 第87-91页 |
·掺Zr对Ir涂层的结构性能影响 | 第91-103页 |
·涂层的组织结构 | 第91-95页 |
·涂层的力学性能 | 第95-99页 |
·硬度和弹性模量 | 第95-96页 |
·结合力 | 第96-97页 |
·残余应力 | 第97-99页 |
·涂层的高温组织结构演化 | 第99-103页 |
·本章小结 | 第103-105页 |
第六章 结论 | 第105-107页 |
参考文献 | 第107-121页 |
致谢 | 第121-122页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第122-126页 |