| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·NiO 结构与性质 | 第11-12页 |
| ·NiO 结构 | 第11-12页 |
| ·NiO 性质 | 第12页 |
| ·ZnO 结构与性质 | 第12-14页 |
| ·ZnO 结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO 薄膜光电特性 | 第13-14页 |
| ·异质结 | 第14-16页 |
| ·异质结简介 | 第14-15页 |
| ·NiO/ZnO 异质结研究进展 | 第15-16页 |
| ·RRAM 简介 | 第16-21页 |
| ·RRAM 的基本结构 | 第17页 |
| ·RRAM 分类 | 第17-18页 |
| ·RRAM 材料 | 第18页 |
| ·RRAM 阻变机制 | 第18-20页 |
| ·电流传导机制 | 第20-21页 |
| ·PLD 法制备薄膜及表征 | 第21-24页 |
| ·实验设备及原理 | 第22-23页 |
| ·性能表征 | 第23-24页 |
| ·本论文的主要工作 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第2章 PLD 法制备 n-NiO、p-NiO 薄膜及其同质结 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验过程 | 第29-30页 |
| ·n-NiO、p-NiO 薄膜制备 | 第29-30页 |
| ·n-NiO/p-NiO 同质结制备 | 第30页 |
| ·NiO 薄膜性能表征 | 第30-34页 |
| ·霍尔测量分析 | 第30-31页 |
| ·金半接触 I-V 分析 | 第31-32页 |
| ·XRD 分析 | 第32-33页 |
| ·透射谱分析 | 第33-34页 |
| ·n-NiO/ p-NiO 同质结 | 第34-36页 |
| ·ITO 基本性质 | 第34-35页 |
| ·同质结 I-V 整流特性分析 | 第35-36页 |
| ·同质结 XRD 图及透射谱 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 第3章 PLD 法制备 ZnO 薄膜及 NiO/ZnO 异质结 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·NiO/ ZnO 异质结的制备 | 第42页 |
| ·ZnO 薄膜性能表征 | 第42-45页 |
| ·霍尔测量分析 | 第42-43页 |
| ·XRD 分析 | 第43-44页 |
| ·透射谱分析 | 第44-45页 |
| ·NiO/ZnO 异质结光电特性研究 | 第45-50页 |
| ·XRD 分析 | 第45-46页 |
| ·I-V 整流特性分析 | 第46-49页 |
| ·透射谱分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 第4章 NiO 基 MIM 结构及其同质结阻变特性研究 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·NiO/ITO 的 XRD 谱 | 第55-56页 |
| ·W/p-NiO/ITO 结构及其阻变特性 | 第56-59页 |
| ·W/p-NiO/ITO 结构 | 第56页 |
| ·W/p-NiO/ITO 阻变 I-V 图 | 第56-59页 |
| ·W/p-NiO/ITO 阻变机制研究 | 第59页 |
| ·Pt/n-NiO/ITO 结构及其阻变特性 | 第59-60页 |
| ·Pt/n-NiO/ITO 结构 | 第59-60页 |
| ·Pt/n-NiO/ITO 阻变特性 | 第60页 |
| ·n-NiO/p-NiO 同质结阻变特性 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士期间完成的论文 | 第66-67页 |
