| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-31页 |
| ·铁电材料的基本概念 | 第14-16页 |
| ·材料的铁电性能 | 第14-15页 |
| ·材料的压电性能 | 第15-16页 |
| ·铁电材料的发展 | 第16-18页 |
| ·铁电薄膜材料主要应用 | 第18页 |
| ·BI_4TI_30_(12) 的结构 | 第18-19页 |
| ·无铅层状铋系钙钛矿铁电薄膜的发展历史及现状 | 第19-24页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第24-26页 |
| ·激光脉冲沉积 | 第24页 |
| ·溶胶－凝胶法(Sol-Gel)法 | 第24-25页 |
| ·金属有机溶液沉积法（MOSD） | 第25页 |
| ·金属有机化学气相沉积（MOCVD） | 第25页 |
| ·化学溶液分解法（CSD） | 第25-26页 |
| ·金属有机化合物分解法(MOD)法 | 第26页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第26-30页 |
| ·本课题的研究工作 | 第30-31页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第31-37页 |
| ·试验所用原料与设备 | 第31页 |
| ·试验原料 | 第31页 |
| ·试验设备 | 第31页 |
| ·薄膜制备 | 第31-33页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第32-33页 |
| ·制备铁电薄膜的工艺流程 | 第33页 |
| ·薄膜表征方法 | 第33-37页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第34-35页 |
| ·电学性能的测试 | 第35-37页 |
| 第三章 影响BNT0.85 薄膜种子层成核与生长的因素 | 第37-46页 |
| ·薄膜的厚度对种子层晶化程度的影响 | 第38-40页 |
| ·厚度对种子层表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·预处理温度对薄膜结晶结构的影响 | 第42-43页 |
| ·退火温度和退火时间对薄膜结晶结构的影响 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 种子层对薄膜铁电和压电性能的影响 | 第46-55页 |
| ·(100)-取向择优的BNT0.85 薄膜生长模式的研究 | 第46-49页 |
| ·种子层对薄膜的晶化程度和取向的影响 | 第49-50页 |
| ·种子层对整个薄膜的铁电性能的影响 | 第50-51页 |
| ·种子层对整个薄膜的压电性能的影响 | 第51-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第五章 铋过量对BNT0.85 薄膜结构与性能的影响 | 第55-69页 |
| ·铋过量对薄膜结晶结构的影响 | 第56-59页 |
| ·铋过量对薄膜表面形貌的影响 | 第59-61页 |
| ·铋过量对薄膜铁电性能的影响 | 第61-64页 |
| ·铋过量对薄膜压电性能的影响 | 第64-67页 |
| ·小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论与展望 | 第69-71页 |
| ·主要的结论 | 第69-70页 |
| ·主要的创新点 | 第70页 |
| ·工作展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附录 | 第78-79页 |
| 一、发表的学术论文 | 第78页 |
| 二、申请的专利 | 第78页 |
| 三、获奖 | 第78-79页 |
| 四、参加的项目 | 第79页 |
