矩形磁控溅射靶的磁场模拟分析及优化
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·课题的目的和意义 | 第10页 |
| ·课题研究的背景与现状 | 第10-20页 |
| ·课题研究的内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验设备与方法 | 第22-30页 |
| ·磁场在磁控溅射过程中的作用 | 第22页 |
| ·溅射镀膜等离子体性质 | 第22-23页 |
| ·设备的组成与功能 | 第23-27页 |
| ·真空获得系统 | 第24-25页 |
| ·真空室结构和尺寸 | 第25页 |
| ·磁控溅射靶 | 第25-26页 |
| ·镀膜生产线其它部件 | 第26-27页 |
| ·实验方法 | 第27-30页 |
| 第3章 矩形磁控溅射靶磁场的模拟与分析 | 第30-50页 |
| ·ANSYS求解磁场基本原理 | 第30-31页 |
| ·矩形磁控溅射靶中截面的磁场模拟 | 第31-36页 |
| ·矩形磁控溅射靶磁场的分析步骤 | 第31-33页 |
| ·磁场模拟结果 | 第33-36页 |
| ·磁控靶模型的实验验证 | 第36-37页 |
| ·矩形磁控溅射靶中截面的磁场分析 | 第37-47页 |
| ·磁场分析及研究方法 | 第37页 |
| ·靶的不同结构参数对磁场的影响规律 | 第37-47页 |
| ·本章小结 | 第47-50页 |
| 第4章 矩形磁控溅射靶的优化设计 | 第50-66页 |
| ·矩形靶磁场的设计原则 | 第50-51页 |
| ·矩形磁控溅射靶的优化设计 | 第51-64页 |
| ·矩形靶优化模型的基本要素 | 第51-54页 |
| ·矩形靶中截面优化设计的步骤 | 第54-55页 |
| ·APDL优化过程命令流 | 第55-59页 |
| ·优化过程与优化结果 | 第59-64页 |
| ·加导磁片的矩形磁控靶的设计 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 矩形靶磁场参数化及优化界面开发 | 第66-76页 |
| ·基于VB控件的ANSYS基本原理 | 第66-68页 |
| ·VB可视化语言简介 | 第66-67页 |
| ·VB可视化语言的功能特性 | 第67-68页 |
| ·VB直接调用APDL程序系统功能 | 第68页 |
| ·矩形靶磁场参数化优化界面程序中的典型接口设置 | 第68-70页 |
| ·矩形靶磁场参数化及优化界面的应用 | 第70-75页 |
| ·矩形靶磁场参数化及优化界面的描述 | 第70-72页 |
| ·操作流程 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第6章 结论与展望 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| ·展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
