磁控溅射等离子体离子能量及流密度的测试研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·等离子体技术 | 第11-19页 |
| ·等离子体的特性 | 第11-12页 |
| ·等离子体的基本参量 | 第12-13页 |
| ·等离子体的分类 | 第13-14页 |
| ·等离子体的研究方法 | 第14-15页 |
| ·等离子体鞘层 | 第15-16页 |
| ·等离子体技术的应用与研究现状 | 第16-19页 |
| ·等离子体诊断技术 | 第19-23页 |
| ·等离子体诊断方法 | 第19-22页 |
| ·等离子体诊断技术的研究现状 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第23-27页 |
| ·磁控溅射辉光放电 | 第23-24页 |
| ·直流磁控溅射镀膜原理 | 第24-25页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第25-27页 |
| ·影响薄膜沉积的工艺参数 | 第27页 |
| ·本文研究的内容及意义 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第2章 实验设备仪器 | 第29-37页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·镀膜设备 | 第29-32页 |
| ·法拉第离子能量密度分析器 | 第32-36页 |
| ·原始法拉第探针的原理与结构 | 第32-33页 |
| ·原始法拉第探针的局限性 | 第33页 |
| ·法拉第离子能量密度分析器的结构设计 | 第33-36页 |
| ·FTM-V膜厚监控仪 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 直流磁控溅射离子能量及流密度 | 第37-63页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·法拉第离子能量密度分析器中负偏压的确定 | 第37-44页 |
| ·实验原理 | 第37-39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·实验数据分析 | 第40-44页 |
| ·实验结论 | 第44页 |
| ·离子能量的测量与分析 | 第44-56页 |
| ·实验原理 | 第44-47页 |
| ·实验过程 | 第47-48页 |
| ·实验数据分析 | 第48-56页 |
| ·实验结论 | 第56页 |
| ·数据验证 | 第56页 |
| ·离子流密度的测量与分析 | 第56-61页 |
| ·实验原理 | 第56-57页 |
| ·实验过程 | 第57-58页 |
| ·实验数据分析 | 第58-60页 |
| ·实验结论 | 第60页 |
| ·数据验证 | 第60-61页 |
| ·本章小节 | 第61-63页 |
| 第4章 等离子体参数对薄膜沉积的影响 | 第63-83页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·薄膜厚度的测量与分析 | 第63-71页 |
| ·实验原理 | 第63页 |
| ·实验过程 | 第63-64页 |
| ·实验数据分析 | 第64-71页 |
| ·薄膜沉积速率的分析 | 第71-73页 |
| ·直流放电功率对沉积速率的影响 | 第71-72页 |
| ·工作压力对沉积速率的影响 | 第72-73页 |
| ·实验结论 | 第73-74页 |
| ·离子能量、密度对沉积速率的影响 | 第74-82页 |
| ·固定工作压力情况下的分析 | 第74-77页 |
| ·固定直流放电功率情况下的分析 | 第77-82页 |
| ·离子能量、密度对薄膜沉积的影响 | 第82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第5章 结论与展望 | 第83-85页 |
| ·结论 | 第83-84页 |
| ·展望 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
