| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·稀磁半导体 | 第9-14页 |
| ·稀磁半导体的定义 | 第9-10页 |
| ·稀磁半导体的特殊性质 | 第10页 |
| ·研究概况 | 第10-12页 |
| ·磁性来源的讨论 | 第12页 |
| ·成磁机理的讨论 | 第12-14页 |
| ·ZnO：Cu稀磁半导体 | 第14-16页 |
| ·ZnO简介 | 第14-15页 |
| ·ZnO：Cu稀磁半导体研究概况 | 第15-16页 |
| ·选题依据 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 样品的制备方法与表征手段 | 第21-27页 |
| ·样品的制备 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射简介 | 第21-22页 |
| ·实验方法 | 第22页 |
| ·样品的表征 | 第22-27页 |
| ·PIXE | 第22-23页 |
| ·XRD和SR-XRD | 第23-24页 |
| ·XAFS | 第24页 |
| ·XPS | 第24-25页 |
| ·Raman | 第25页 |
| ·AGM | 第25-26页 |
| ·RBS | 第26-27页 |
| 第三章 实验仪器的恢复、改进和调试以及实验流程的制定 | 第27-31页 |
| ·仪器的恢复 | 第27-28页 |
| ·仪器的改进 | 第28页 |
| ·仪器的调试 | 第28-29页 |
| ·实验流程 | 第29-31页 |
| 第四章 ZnO：Cu薄膜的制备及其局域结构与磁性研究 | 第31-51页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·样品的制备 | 第31-33页 |
| ·元素含量分析 | 第33页 |
| ·微观结构分析 | 第33-47页 |
| ·XRD和SR-XRD结果 | 第33-37页 |
| ·XAFS结果 | 第37-43页 |
| ·XPS结果 | 第43-45页 |
| ·Raman结果 | 第45-47页 |
| ·磁性结果与分析 | 第47-49页 |
| ·总结 | 第49-50页 |
| ·有待解决的问题 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 论文发表 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |