| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 1． 绪论 | 第10-27页 |
| 1． 1 膜分离技术概况 | 第10-11页 |
| 1． 2 膜分离技术在气体纯化分离中的应用 | 第11页 |
| 1． 3 氢同位素气体的纯化 | 第11-24页 |
| 1． 3． 1 氢同位素气体的需求 | 第11-13页 |
| 1． 3． 2 氢同位素气体的纯化方法 | 第13-16页 |
| 1． 3． 3 钯膜扩散技术的研究进展 | 第16-20页 |
| 1． 3． 3． 1 钯膜扩散技术 | 第16-17页 |
| 1． 3． 3． 2 钯银合金膜技术 | 第17-20页 |
| 1． 3． 4 选择渗氢膜的发展方向 | 第20-21页 |
| 1． 3． 5 耐熔金属表面改性膜 | 第21-23页 |
| 1． 3． 6 耐熔金属表面改性膜存在的问题 | 第23-24页 |
| 1． 4 本课题的研究目标、技术路线和主要内容 | 第24-27页 |
| 1． 4． 1 研究目标 | 第24-25页 |
| 1． 4． 2 主要研究内容 | 第25页 |
| 1． 4． 3 技术路线 | 第25-27页 |
| 2． 薄膜扩散理论 | 第27-35页 |
| 2． 1 引言 | 第27页 |
| 2． 2 固态膜扩散原理 | 第27-28页 |
| 2． 3 固态膜表面吸附 | 第28-30页 |
| 2． 3． 1 物理吸附与化学吸附 | 第28-29页 |
| 2． 3． 2 金属表面的化学吸附 | 第29-30页 |
| 2． 4 固态膜中的扩散 | 第30-32页 |
| 2． 5 气体穿过固态膜的扩散速率 | 第32-35页 |
| 3． 锆膜基材表面氧化层的去除研究 | 第35-68页 |
| 3． 1 引言 | 第35-38页 |
| 3． 1． 1 锆的核性质 | 第35页 |
| 3． 1． 2 锆的物理、机械性能 | 第35页 |
| 3． 1． 3 锆的化学性能 | 第35-37页 |
| 3． 1． 3． 1 锆与氧的作用 | 第36-37页 |
| 3． 1． 3． 2 锆与氢的作用 | 第37页 |
| 3． 1． 4 锆的选择渗氢性能 | 第37-38页 |
| 3． 2 锆表面氧化膜的去除研究 | 第38-66页 |
| 3． 2． 1 锆表面氧化膜及其预处理 | 第38-41页 |
| 3． 2． 2 真空离子研磨法去锆表面氧化膜 | 第41-45页 |
| 3． 2． 3 电化学法去锆表面氧化膜 | 第45-51页 |
| 3． 2． 3． 1 阴极碱性清洗 | 第46-47页 |
| 3． 2． 3． 2 酸性浸蚀 | 第47-48页 |
| 3． 2． 3． 3 阴极活化氢化 | 第48-51页 |
| 3． 2． 4 真空高温加氢法去锆表面氧化膜 | 第51-66页 |
| 3． 2． 4． 1 真空高温加氢反应器 | 第52-53页 |
| 3． 2． 4． 2 真空高温加氢反应原料气的纯化 | 第53-55页 |
| 3． 2． 4． 3 真空高温加氢反应配气系统 | 第55页 |
| 3． 2． 4． 4 真空高温加氢反应实验 | 第55-65页 |
| 3． 2． 4． 4． 1 高纯气体实验 | 第56-60页 |
| 3． 2． 4． 4． 2 实验与改进 | 第60-61页 |
| 3． 2． 4． 4． 3 超高纯气体实验 | 第61-65页 |
| 3． 2． 4． 5 真空高温加氢反应中的压力变化 | 第65-66页 |
| 3． 3 小结 | 第66-68页 |
| 4 锆-钯复合膜的制备研究 | 第68-82页 |
| 4． 1 引言 | 第68页 |
| 4． 2 化学法镀钯膜研究 | 第68-75页 |
| 4． 2． 1 镀液组成 | 第68-69页 |
| 4． 2． 2 实验材料及溶液的配制 | 第69-70页 |
| 4． 2． 3 镀膜实验研究 | 第70-71页 |
| 4． 2． 4 镀膜结果 | 第71-73页 |
| 4． 2． 5 镀膜热处理 | 第73-75页 |
| 4． 3 磁控溅射法镀钯膜研究 | 第75-81页 |
| 4． 3． 1 镀膜条件 | 第75-76页 |
| 4． 3． 2 镀膜实验研究 | 第76-81页 |
| 4． 3． 2． 1 以真空离子研磨法得到的锆片为基片镀膜 | 第76-78页 |
| 4． 3． 2． 1． 1 镀膜条件 | 第76页 |
| 4． 3． 2． 1． 2 镀膜结果 | 第76页 |
| 4． 3． 2． 1． 3 镀膜热处理 | 第76-78页 |
| 4． 3． 2． 2 以真空高温加氢法得到的锆片为基片镀膜 | 第78-81页 |
| 4． 3． 2． 2． 1 镀膜条件 | 第78页 |
| 4． 3． 2． 2． 2 镀膜结果 | 第78-80页 |
| 4． 3． 2． 2． 3 镀膜热处理 | 第80-81页 |
| 4． 4 小结 | 第81-82页 |
| 5 锆-钯复合膜的渗氢行为研究 | 第82-106页 |
| 5． 1 引言 | 第82页 |
| 5． 2 渗氢实验 | 第82-90页 |
| 5． 2． 1 实验样品 | 第82-83页 |
| 5． 2． 2 渗氢池 | 第83-85页 |
| 5． 2． 3 渗氢实验装置 | 第85-88页 |
| 5． 2． 4 渗氢实验 | 第88-90页 |
| 5． 3 渗氢实验结果与讨论 | 第90-99页 |
| 5． 3． 1 离子轰击除氧镀膜片的渗氢实验 | 第90-93页 |
| 5． 3． 1． 1 渗氢实验结果 | 第90页 |
| 5． 3． 1． 2 渗氢实验结果讨论 | 第90-93页 |
| 5． 3． 2 真空高温除氧镀膜片的渗氢实验 | 第93-97页 |
| 5． 3． 2． 1 渗氢实验结果 | 第93-94页 |
| 5． 3． 2． 2 渗氢实验结果讨论 | 第94-97页 |
| 5． 3． 3 渗氢系数与温度的关系 | 第97-99页 |
| 5． 4 锆膜渗氢理论 | 第99-104页 |
| 5． 4． 1 引言 | 第99-100页 |
| 5． 4． 2 氢的渗透阻力 | 第100-102页 |
| 5． 4． 3 氢的渗透理论 | 第102-104页 |
| 5． 5 小结 | 第104-106页 |
| 6 结论 | 第106-109页 |
| 参考文献 | 第109-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 附录一：作者在攻读博士学位期间发表的论文 | 第119-120页 |
| 附录二：高温氢化反应压力、时间数据 | 第120-122页 |
| 附录三：离子轰击除氧镀钯膜锆片的渗氢实验数据 | 第122-123页 |
| 附录四：离子轰击除氧镀钯膜锆片的渗氢系数数据 | 第123-124页 |
| 附录五：真空高温除氧镀钯膜锆片的渗氢实验数据 | 第124-125页 |
| 附录六：真空高温除氧镀钯膜锆片的渗氢系数数据 | 第125-126页 |
| 附录七：符号说明 | 第126页 |
