PMMA介质层铟锌氧化物薄膜晶体管的制备与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·薄膜晶体管的发展及应用 | 第9-10页 |
| ·薄膜晶体管的工作原理 | 第10-16页 |
| ·传统硅基薄膜晶体管 | 第16-17页 |
| ·氧化物薄膜晶体管 | 第17-22页 |
| ·国内外研究现状 | 第17-18页 |
| ·半导体沟道层材料 | 第18-20页 |
| ·介质层材料 | 第20-21页 |
| ·电极材料 | 第21-22页 |
| ·本论文的研究意义和研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的制备与表征 | 第24-37页 |
| ·制备方法 | 第24-29页 |
| ·直流反应磁控溅射制备无机沟道层 | 第24-26页 |
| ·浸渍提拉法制备有机介质层 | 第26页 |
| ·真空热蒸发制备金属电极 | 第26-27页 |
| ·薄膜晶体管的结构与制备步骤 | 第27-29页 |
| ·表征方法 | 第29-37页 |
| ·薄膜结晶性及组分测试 | 第29-31页 |
| ·薄膜表面形貌及厚度测试 | 第31-32页 |
| ·薄膜光学性能测试 | 第32-33页 |
| ·薄膜电学性能测试 | 第33-36页 |
| ·薄膜晶体管电学性能测试 | 第36-37页 |
| 第三章 非晶铟锌氧化物沟道层的研究 | 第37-48页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·沟道层薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·沟道层薄膜的性能分析 | 第39-46页 |
| ·薄膜的结晶性、表面形貌及组分分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的光学、电学性能 | 第40-42页 |
| ·沟道层厚度对TFT性能的影响 | 第42-43页 |
| ·溅射氧分压对TFT性能的影响 | 第43-45页 |
| ·靶材组分含量对TFT性能的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 有机PMMA介质层的研究 | 第48-54页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·PMMA薄膜的制备 | 第48-49页 |
| ·介质层的性能分析 | 第49-53页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第49-50页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第50页 |
| ·薄膜的介电特性 | 第50-51页 |
| ·介质层厚度对TFT性能的影响 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 器件稳定性及透明电极的探究 | 第54-62页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·器件稳定性 | 第54-56页 |
| ·透明电极 | 第56-61页 |
| ·薄膜制备方法 | 第57页 |
| ·薄膜的结晶性与表面形貌 | 第57-58页 |
| ·实验参数对薄膜光电性能的影响 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 全文总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 附录 硕士生在读期间的科研成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
