摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 引言 | 第8-12页 |
第二章 含色散关系的耦合道光学模型 | 第12-36页 |
§2.1 基于硬旋转子模型的耦合道方法 | 第12-17页 |
§2.1.1 硬旋转子模型 | 第12-13页 |
§2.1.2 耦合道光学模型 | 第13-17页 |
§2.2 色散关系 | 第17-28页 |
§2.2.1 虚部的形式与性质 | 第18-20页 |
§2.2.2 色散关系的解析推导 | 第20-25页 |
§2.2.3 高能修正 | 第25-28页 |
§2.3 含色散关系的耦合道光学模型势 | 第28-32页 |
§2.3.1 耦合道光学势 | 第28-29页 |
§2.3.2 色散关系的应用 | 第29-32页 |
§2.4 自旋为1/2的粒子的极化现象 | 第32-36页 |
§2.4.1 极化度(Polarization) | 第32页 |
§2.4.2 散射中的极化现象 | 第32-33页 |
§2.4.3 分析本领(Analyzing Power) | 第33-36页 |
第三章 光学势参数的获得 | 第36-42页 |
§3.1 单核光学势参数的获得 | 第36-38页 |
§3.2 普适光学势参数的构造 | 第38-42页 |
第四章 计算结果与讨论 | 第42-68页 |
§4.1 中子总截面与质子反应截面 | 第42-44页 |
§4.2 中子入射的散射微分截面数据 | 第44-54页 |
§4.2.1 Mg、Si、S、Ar和Ca的散射数据的计算分析 | 第44-46页 |
§4.2.2 Ti、Cr、Fe和Ni的散射数据的计算分析 | 第46-49页 |
§4.2.3 Zr、Mo和Sn的散射数据的计算分析 | 第49-54页 |
§4.3 质子入射的散射微分截面数据 | 第54-64页 |
§4.3.1 Mg、Si、S、Ar和Ca的散射数据的计算分析 | 第54-56页 |
§4.3.2 Ti、Cr、Fe和Ni的散射数据的计算分析 | 第56-60页 |
§4.3.3 Zr、Mo和Sn的散射数据的计算分析 | 第60-64页 |
§4.4 分析本领 | 第64-67页 |
§4.5 小结 | 第67-68页 |
第五章 总结 | 第68-74页 |
§5.1 计算分析方面 | 第68-69页 |
§5.2 软件使用与程序方面 | 第69-71页 |
§5.3 当前工作的特点 | 第71-72页 |
§5.4 对于未来工作的展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
致谢 | 第78-79页 |