Co/Cu（001）异质生长的动力学蒙特卡罗研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·异质外延膜的理论研究现状 | 第10-13页 |
| ·本文的工作 | 第13-14页 |
| 2 薄膜生长模型与计算机模拟方法 | 第14-28页 |
| ·薄膜的生长过程和方式 | 第14-19页 |
| ·亚单层膜的生长过程 | 第15-17页 |
| ·厚膜的生长 | 第17-19页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第19-22页 |
| ·基片温度的影响 | 第20页 |
| ·沉积速率的影响 | 第20-21页 |
| ·沉积角度的影响 | 第21页 |
| ·沉积能量的影响 | 第21-22页 |
| ·模型理论与方法 | 第22-28页 |
| ·理论与方法概述 | 第22-24页 |
| ·几种模拟方法的模型与应用 | 第24-26页 |
| ·几种模型的特点及对比 | 第26-28页 |
| 3 我们的模型和计算方法 | 第28-37页 |
| ·物理模型 | 第29-33页 |
| ·沉积过程 | 第29-31页 |
| ·表面扩散过程 | 第31-32页 |
| ·能量粒子在薄膜表面的作用过程 | 第32-33页 |
| ·原子间势能的计算 | 第33-34页 |
| ·几种特殊的迁移扩散势垒 | 第34-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 4 异质外延生长Co/Cu(001)的模拟结果 | 第37-50页 |
| ·入射粒子能量对薄膜形貌的影响 | 第37-46页 |
| ·薄膜生长瞬时态的研究 | 第37-42页 |
| ·薄膜生长最终态的研究 | 第42-46页 |
| ·最初几层的生长模式 | 第46-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 5 结论与展望 | 第50-52页 |
| ·主要结论 | 第50页 |
| ·展望 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表论文 | 第59页 |
