硅基碳纳米管阵列的制备及表征
| 摘要 | 第1-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·碳纳米管的研究进展 | 第10-13页 |
| ·碳纳米管的结构与性质 | 第13-20页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第13-16页 |
| ·碳纳米管的力学性能及相关应用 | 第16页 |
| ·碳纳米管的电磁性能及相关应用 | 第16-18页 |
| ·碳纳米管的光学性能及相关应用 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管的热学性能及相关应用 | 第19页 |
| ·碳纳米管的场发射性能及相关应用 | 第19页 |
| ·碳纳米管的化学性能及相关应用 | 第19-20页 |
| ·本论文选题的意义及主要内容 | 第20-23页 |
| 第二章 碳纳米管的制备与纯化技术 | 第23-39页 |
| ·碳纳米管的制备技术 | 第23-30页 |
| ·电弧放电法(Arc-discharge) | 第23-26页 |
| ·激光蒸发法(PLD) | 第26-27页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第27-29页 |
| ·碳纳米管的批量生产 | 第29-30页 |
| ·碳纳米管的纯化技术 | 第30-32页 |
| ·碳纳米管的生长机理 | 第32-34页 |
| ·碳纳米管阵列的制备方法 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 硅基多孔氧化铝模板的制备 | 第39-58页 |
| ·多孔氧化铝模板概述 | 第39页 |
| ·多孔氧化铝模板的制备 | 第39-44页 |
| ·实验仪器及材料 | 第39-41页 |
| ·材料准备 | 第41-43页 |
| ·阳极氧化法制备模板 | 第43-44页 |
| ·多孔氧化铝膜表征及氧化工艺参数探索 | 第44-53页 |
| ·AAO表征分析 | 第44-49页 |
| ·氧化工艺参数对制备AAO的影响 | 第49-53页 |
| ·硅基多孔氧化铝(AAO/Si)制备 | 第53-56页 |
| ·实验流程 | 第53页 |
| ·AAO/Si的制备 | 第53-54页 |
| ·AAO/Si的表征 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 催化热裂解甲烷制各碳纳米管 | 第58-71页 |
| ·CVD法制备碳纳米管的原理 | 第58-59页 |
| ·实验 | 第59-62页 |
| ·材料及仪器设备 | 第59-61页 |
| ·催化剂前躯体的制备 | 第61-62页 |
| ·CVD法制备碳纳米管 | 第62页 |
| ·样品表征 | 第62-65页 |
| ·碳纳米管的透射电镜(TEM)分析 | 第62-63页 |
| ·碳纳米管场发射扫描电镜(FE-SEM)分析 | 第63-64页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱表征 | 第64-65页 |
| ·CVD法制备碳纳米管的工艺参数的研究 | 第65-69页 |
| ·反应气体对碳纳米管制备的影响 | 第65-66页 |
| ·催化剂对碳纳米管制备的影响 | 第66-68页 |
| ·温度对碳纳米管制备的影响 | 第68-69页 |
| ·反应时间对碳纳米管制备的影响 | 第69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 硅基碳纳米管阵列的制备 | 第71-80页 |
| ·碳纳米管阵列概述 | 第71页 |
| ·碳纳米管阵列的制备 | 第71-74页 |
| ·实验路线 | 第71-72页 |
| ·硅基碳纳米管阵列的制备 | 第72-74页 |
| ·硅基碳纳米管阵列的表征 | 第74-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第六章 碳纳米管光学性质的研究 | 第80-98页 |
| ·碳纳米管的非线性光学特性研究 | 第80-84页 |
| ·实验 | 第80-81页 |
| ·实验曲线分析 | 第81-84页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱研究 | 第84-93页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱研究理论 | 第84-86页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱测量与分析 | 第86-93页 |
| ·碳纳米管的偏振光吸收特性研究 | 第93-96页 |
| ·实验 | 第93-94页 |
| ·实验结果分析 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-98页 |
| 第七章 结论与展望 | 第98-101页 |
| 参考文献 | 第101-106页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加的科研 | 第106-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
