硅基二氧化硅型阵列波导光栅的研制
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-29页 |
·光通信与光网络 | 第11-13页 |
·光网络中的波分复用技术 | 第13-20页 |
·阵列波导光栅的应用 | 第20-23页 |
·发展平面光波导的意义 | 第23-24页 |
·当前平面光波导工艺和技术发展概况 | 第24-26页 |
·本文工作内容及章节安排 | 第26-29页 |
2 光波导理论基础 | 第29-56页 |
·引言 | 第29页 |
·平板波导 | 第29-35页 |
·条形波导 | 第35-40页 |
·BPM 理论 | 第40-47页 |
·BPM 理论的应用 | 第47-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
3 硅基二氧化硅波导应力分析 | 第56-76页 |
·引言 | 第56页 |
·弹性热应力理论 | 第56-60页 |
·多层薄膜应力理论 | 第60-66页 |
·平面光波导的应力理论 | 第66-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
4 AWG 的特性与理论分析 | 第76-93页 |
·阵列波导光栅的基本原理 | 第76-79页 |
·阵列波导光栅的基本参数定义 | 第79-81页 |
·阵列波导光栅的性能参数及指标 | 第81-87页 |
·阵列波导光栅的光谱响应研究 | 第87-92页 |
·本章小结 | 第92-93页 |
5 AWG 的模拟设计 | 第93-113页 |
·AWG 设计的计算流程说明 | 第93-95页 |
·基于AWG 的粗波分复用器的设计 | 第95-101页 |
·平坦型AWG 密集波分复用器的设计 | 第101-113页 |
6 硅基二氧化硅波导制作关键工艺研究 | 第113-148页 |
·引言 | 第113-114页 |
·硅片的清洗 | 第114-116页 |
·二氧化硅波导下包层膜的制作 | 第116-120页 |
·二氧化硅波导芯层膜的制作 | 第120-127页 |
·二氧化硅波导结构的制作 | 第127-143页 |
·二氧化硅波导上包层的制作研究 | 第143-146页 |
·小结 | 第146-148页 |
7 AWG 的制作与测试 | 第148-160页 |
·AWG 的制作 | 第148-150页 |
·AWG 的测试 | 第150-159页 |
·小结 | 第159-160页 |
8 全文总结 | 第160-162页 |
致谢 | 第162-163页 |
参考文献 | 第163-176页 |
附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第176页 |