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席夫碱自组装膜对铜的缓蚀作用

摘要第1-8页
Abstract第8-10页
第一章 绪论第10-26页
   ·席夫碱应用研究新进展第10-15页
     ·医药领域的应用第10-12页
     ·催化领域的应用第12-13页
     ·分析化学领域的应用第13-14页
     ·腐蚀领域的应用第14页
     ·光致变色领域的应用第14-15页
   ·铜及其合金缓蚀剂的研究应用进展第15-20页
     ·铜及其合金缓蚀剂的发展过程第15-16页
     ·铜及其合金缓蚀剂的研究进展第16-20页
     ·铜及其合金缓蚀剂的研究展望第20页
   ·自组装单分子膜的研究进展第20-24页
     ·SAM的特征及类型第21-22页
     ·SAM的表征第22-23页
     ·SAM的功能第23-24页
   ·选题依据和工作总体思路第24-26页
第二章 实验方法第26-30页
   ·电化学测试仪器设备第26-27页
   ·电化学测试软件第27-29页
   ·电化学测量体系第29页
   ·材料与试剂第29-30页
第三章 铜表面席夫碱自组装膜的形成第30-44页
   ·席夫碱自组装膜形成第31-35页
     ·交流阻抗测试第31-33页
     ·电镜扫描测试第33-35页
   ·电极表面状态对席夫碱成膜的影响第35-37页
   ·成膜时间对席夫碱成膜的影响第37-40页
     ·成膜时间对B-et-B成膜的影响第37-39页
     ·成膜时间对其它席夫碱成膜的影响第39-40页
   ·席夫碱浓度对成膜的影响第40-42页
   ·本章小结第42-44页
第四章 席夫碱结构与缓蚀性能的关系第44-55页
   ·实验第44-45页
   ·结果第45-48页
   ·讨论第48-54页
     ·计算及研究方法第48-49页
     ·缓蚀剂分子的量子化学参数与缓蚀性能的关系第49-53页
     ·电荷分布与缓蚀性能的关系第53-54页
   ·本章小结第54-55页
第五章 温度和介质对铜缓蚀作用的影响第55-68页
   ·温度对席夫碱成膜的影响第55-58页
   ·腐蚀介质温度对铜腐蚀的影响第58-59页
   ·温度对成膜与腐蚀的共同影响第59-63页
     ·交流阻抗测试第59-62页
     ·温度对缓蚀与腐蚀的比较第62-63页
   ·介质对铜缓蚀作用的影响第63-67页
     ·裸铜电极在NaOH溶液中的循环伏安行为第63-64页
     ·不同pH的NaCl溶液中铜的缓蚀作用第64-67页
   ·本章小结第67-68页
第六章 结论第68-70页
参考文献第70-75页
致谢第75页

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