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纳米SnO2/萘酞菁铜及其杂化薄膜的制备与气敏性质研究

中文摘要第1-3页
英文摘要第3-12页
第一章 文献综述第12-27页
   ·纳米氧化物半导体气敏材料简介第12-14页
   ·纳米SnO_2基气敏材料的研究进展第14-20页
   ·酞菁类气敏材料的研究现状第20-25页
   ·酞菁类-氧化物复合LB膜的气敏性研究第25页
   ·立题依据第25-27页
第二章 实验部分第27-35页
   ·试剂、溶液的配置及精制第27-28页
   ·萘酞菁铜配合物的制备第28-31页
   ·SnO_2水溶胶、纳米粉体及其薄膜的制备第31-32页
   ·LB膜的制备第32-33页
   ·测试仪器及表征手段第33-35页
第三章 纳米SnO_2水溶胶及其薄膜的制备与性质研究第35-54页
   ·胶溶酸的选择第35-39页
   ·溶胶制备工艺的优化第39-46页
   ·SnO_2薄膜的制备工艺研究第46-51页
   ·SnO_2薄膜的气敏性能研究第51-53页
   ·本章小结第53-54页
第四章 萘酞菁铜LB膜的制备与气敏性能研究第54-68页
   ·八乙氧基-2,3-萘酞菁铜(Ⅱ)LB膜的研究第54-61页
   ·八丁氧基-2,3-萘酞菁铜(Ⅱ)LB膜的研究第61-67页
   ·本章小结第67-68页
第五章 萘酞菁铜/SnO_2杂化LB膜的制备与气敏性能研究第68-78页
   ·八乙氧基-2,3-萘酞菁铜/SnO_2杂化LB膜的研究第68-73页
   ·八丁氧基-2,3-萘酞菁铜/SnO_2杂化膜的研究第73-77页
   ·本章小结第77-78页
展望第78-79页
结论第79-80页
攻读硕士学位期间发表和正在撰写的论文第80-81页
参考文献第81-88页
致谢第88-89页
独创性声明第89页

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