| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-44页 |
| 1．1 微波ECR等离子体源的特点及其基本原理 | 第13-20页 |
| 1．1．1 微波ECR等离子体源的特点 | 第13-14页 |
| 1．1．2 微波ECR等离子体源的基本原理 | 第14-20页 |
| 1．2 溅射沉积技术及其发展和应用 | 第20-30页 |
| 1．2．1 溅射现象 | 第21-24页 |
| 1．2．2 典型溅射沉积方法 | 第24-26页 |
| 1．2．3 反应溅射沉积 | 第26-28页 |
| 1．2．4 微波-ECR等离子体增强溅射沉积 | 第28-30页 |
| 1．2．5 溅射沉积技术的应用 | 第30页 |
| 1．3 氮化碳薄膜的研究概况 | 第30-37页 |
| 1．3．1 氮化碳的理论预测 | 第31-33页 |
| 1．3．2 理论预测的C_3N_4晶体结构 | 第33-35页 |
| 1．3．3 氮化碳的实验研究 | 第35-37页 |
| 1．4 本工作的目的意义和研究内容 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-44页 |
| 第二章 双放电腔微波—ECR等离子体源特性研究 | 第44-59页 |
| 2．1 引言 | 第44-45页 |
| 2．2 双放电腔微波-ECR等离子体源简介 | 第45-46页 |
| 2．3 等离子体Langmuir单探针诊断原理 | 第46-52页 |
| 2．3．1 插入等离子体内的悬浮金属丝 | 第46-48页 |
| 2．3．2 Langmuir单探针的工作原理 | 第48-50页 |
| 2．3．3 由单探针Ⅰ-Ⅴ特性曲线获取等离子体参数的步骤 | 第50-52页 |
| 2．4 双放电腔微波-ECR等离子体源等离子体特性 | 第52-57页 |
| 2．4．1 双放电腔微波-ECR等离子体源的均匀性 | 第52-54页 |
| 2．4．2 双放电腔微波-ECR等离子体源等离子体密度和放电参数之间的关系 | 第54-57页 |
| 2．5 本章小结 | 第57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射的研究 | 第59-74页 |
| 3．1 引言 | 第59页 |
| 3．2 双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射实装置 | 第59-61页 |
| 3．3 双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射放电特性 | 第61-65页 |
| 3．4 磁场位形、工作气压、微波功率对ECR等离子体增强磁控溅射Ⅰ-Ⅴ放电特性的影响 | 第65-73页 |
| 3．4．1 磁场位形对Ⅰ-Ⅴ放电特性的影响 | 第65-68页 |
| 3．4．2 微波功率对Ⅰ-Ⅴ放电特性的影响 | 第68页 |
| 3．4．3 工作气压对Ⅰ-Ⅴ放电特性的影响 | 第68-73页 |
| 3．5 本章小结 | 第73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第四章 氮化碳的制备和表征 | 第74-90页 |
| 4．1 引言 | 第74页 |
| 4．2 双放电腔微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积氮化碳薄膜的实验过程 | 第74-76页 |
| 4．3 CN膜的表征和分析 | 第76-88页 |
| 4．4 本章小结 | 第88页 |
| 参考文献 | 第88-90页 |
| 第五章 双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积CN膜工艺研究 | 第90-110页 |
| 5．1 引言 | 第90页 |
| 5．2 工艺参数和CN膜沉积速率之间的关系 | 第90-100页 |
| 5．2．1 微波功率和CN膜沉积速率之间的关系 | 第90-92页 |
| 5．2．2 工作气压和CN膜沉积速率的关系 | 第92-93页 |
| 5．2．3 溅射偏压和CN膜沉积速率的关系 | 第93-94页 |
| 5．2．4 沉积偏压和CN膜沉积速率的关系 | 第94-97页 |
| 5．2．5 沉积温度和CN膜沉积速率的关系 | 第97-98页 |
| 5．2．6 靶-基距和CN膜沉积速率的关 | 第98-100页 |
| 5．3 工艺参数对CNx膜特性的影响 | 第100-108页 |
| 5．4 本章小结 | 第108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第六章 双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积CN膜成膜机理 | 第110-124页 |
| 6．1 引言 | 第110页 |
| 6．2 等离子体发射光谱诊断 | 第110-114页 |
| 6．2．1 等离子体发射光谱 | 第110-113页 |
| 6．2．2 OES实验装置 | 第113-114页 |
| 6．3 微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积CN膜生长因子的探测 | 第114-116页 |
| 6．4 CNx膜生长因子CN基团的形成 | 第116-120页 |
| 6．4．1 CN基团发射光谱强度与工作气压及位置的关系 | 第116-118页 |
| 6．4．2 CN基团形成机理 | 第118-120页 |
| 6．5 CNx膜成膜机理初探 | 第120-121页 |
| 6．6 本章小结 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-124页 |
| 第七章 结论 | 第124-125页 |
| 论文创新点摘要 | 第125-126页 |
| 发表学术论文及专和列表 | 第126-128页 |
| 致谢 | 第128页 |
