圆平面磁控溅射靶的磁场优化及刻蚀模拟
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第10页 |
| ·课题研究的背景与现状 | 第10-19页 |
| ·课题研究的内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验设备及原理 | 第20-28页 |
| ·磁控溅射镀膜的基本原理 | 第20-21页 |
| ·设备的组成与功能 | 第21-25页 |
| ·真空抽气系统 | 第21-22页 |
| ·溅射镀膜室 | 第22-24页 |
| ·预处理室 | 第24页 |
| ·镀膜机的工作过程 | 第24-25页 |
| ·实验的内容与方法 | 第25-28页 |
| 第3章 圆形磁控溅射靶磁场的模拟与分析 | 第28-44页 |
| ·利用ANSYS软件求解磁场 | 第28-29页 |
| ·有限元法基本原理和分析步骤 | 第28页 |
| ·ANSYS软件 | 第28-29页 |
| ·ANSYS电磁场模拟的数学模型 | 第29-30页 |
| ·圆形磁控溅射靶的物理模型 | 第30-33页 |
| ·圆形磁控溅射靶的物理模型 | 第30-31页 |
| ·圆形磁控溅射靶磁场分析步骤 | 第31-33页 |
| ·验证磁控靶模型的正确性 | 第33-35页 |
| ·圆形磁控溅射靶的磁场分析 | 第35-43页 |
| ·磁场分析及研究方法 | 第35页 |
| ·靶的不同结构参数对磁场的影响规律 | 第35-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 圆形磁控溅射靶的优化设计 | 第44-64页 |
| ·磁场的设计原则 | 第44-45页 |
| ·磁场强度设计原则 | 第44页 |
| ·磁场均匀性设计原则 | 第44-45页 |
| ·磁场设计改进原则 | 第45页 |
| ·ANSYS参数化设计语言 | 第45-50页 |
| ·APDL简介 | 第45-46页 |
| ·ANSYS的优化方法及相关概念 | 第46-47页 |
| ·ANSYS优化的基本原理 | 第47-49页 |
| ·ANSYS优化设计的步骤 | 第49-50页 |
| ·圆形磁控溅射靶的优化设计 | 第50-57页 |
| ·带削角极靴靶的优化设计 | 第50-54页 |
| ·无极靴靶的优化设计 | 第54-57页 |
| ·加导磁片磁控靶的优化设计 | 第57-62页 |
| ·本章小节 | 第62-64页 |
| 第5章 圆形磁控溅射靶的刻蚀模拟 | 第64-72页 |
| ·靶材刻蚀的研究方法 | 第64-66页 |
| ·传统磁控刻蚀环的形成 | 第64页 |
| ·靶分析和设计的方法 | 第64-66页 |
| ·圆形磁控靶的刻蚀模拟 | 第66-72页 |
| ·电子在电磁场中的运动分析 | 第66-67页 |
| ·模拟靶材刻蚀的模型 | 第67-69页 |
| ·圆形磁控靶的刻蚀模拟 | 第69-72页 |
| 第6章 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·主要研究结论 | 第72-73页 |
| ·前景展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
