高能离子溅射镀膜机中辅助阳极性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·磁控溅射技术 | 第10页 |
| ·等离子体 | 第10-14页 |
| ·等离子体定义以及相关重要概念 | 第10-11页 |
| ·等离子体成膜 | 第11-12页 |
| ·等离子体模拟研究进展 | 第12-14页 |
| ·等离子体增强技术 | 第14-19页 |
| ·非平衡磁控溅射系统 | 第15-17页 |
| ·离子辅助溅射 | 第17页 |
| ·等离子增强磁控溅射沉积技术(PMD) | 第17-19页 |
| ·课题研究内容 | 第19-22页 |
| ·辅助阳极研究的目的和意义 | 第19-20页 |
| ·论文研究的关键技术和难点 | 第20-22页 |
| 第2章 等离子体粒子模拟模型及数值求解 | 第22-30页 |
| ·等离子体的粒子模拟方法 | 第22页 |
| ·等离子体粒子模拟的基本思路 | 第22页 |
| ·等离子体模拟方法的计算流程和常用算法 | 第22-30页 |
| ·等离子体模拟方法的基本流程及蛙跳算法 | 第23页 |
| ·计算粒子形状的插值方法和线性加权方法 | 第23-25页 |
| ·Newton-Lorentz运动方程的求解 | 第25页 |
| ·静电模型以及边界条件 | 第25-27页 |
| ·电势的计算 | 第27-28页 |
| ·电磁模型中Maxwell方程的求解 | 第28-29页 |
| ·电磁模型中的电流参量 | 第29-30页 |
| 第3章 真空室等离子体区域模拟 | 第30-58页 |
| ·简介 | 第30页 |
| ·磁控溅射等离子体产生的模拟方法 | 第30-31页 |
| ·等离子体产生过程的模拟结果 | 第31-56页 |
| ·外加磁场的模拟 | 第31-34页 |
| ·辅助阳极的OOPIC模拟 | 第34-37页 |
| ·真空室的等离子体模拟 | 第37-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 辅助阳极的电压位置优化设计 | 第58-74页 |
| ·辅助阳极电压的优化 | 第58-67页 |
| ·辅助阳极位置的优化 | 第67-69页 |
| ·辅助阳极位置和电压的双优化 | 第69-72页 |
| ·磁场排列的优化 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 结论与展望 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第74页 |
| ·展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
