| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·课题背景 | 第11-12页 |
| ·研究发展现状 | 第12-13页 |
| ·本文主要工作 | 第13-15页 |
| 第二章 频率合成基本技术 | 第15-24页 |
| ·DDS 频率合成器 | 第15-21页 |
| ·DDS 基本原理 | 第15-16页 |
| ·DDS 频谱特性 | 第16-19页 |
| ·DDS 性能特点 | 第19-21页 |
| ·PLL 频率合成器 | 第21-23页 |
| ·PLL 频率合成器基本原理 | 第21页 |
| ·PLL 频率合成器性能特点 | 第21-23页 |
| ·小结 | 第23-24页 |
| 第三章 频率合成器相位噪声分析 | 第24-30页 |
| ·DDS 频率合成器相位噪声 | 第24-25页 |
| ·PLL 频率合成器相位噪声 | 第25-29页 |
| ·PLL 相位噪声模型 | 第25-26页 |
| ·PLL 相位噪声传递关系 | 第26-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第四章 频率合成器相位控制技术研究 | 第30-42页 |
| ·PLL 频率合成器相位控制技术研究 | 第30-36页 |
| ·延迟线方式 | 第30-32页 |
| ·数字PLL 方式 | 第32-34页 |
| ·DDS 方式 | 第34-36页 |
| ·基于DDS 的PLL 相位控制技术 | 第36-41页 |
| ·DDS 分频比设计 | 第36-38页 |
| ·PLL 相位控制 | 第38-41页 |
| ·相位控制精度 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第五章 低相位噪声高精度相位可控频率合成器设计与实现 | 第42-57页 |
| ·频率合成器设计 | 第42-51页 |
| ·频率合成器指标分析 | 第42-43页 |
| ·频率合成器设计实现 | 第43-51页 |
| ·测试与结果分析 | 第51-56页 |
| ·相位噪声 | 第51-53页 |
| ·谐波和杂散 | 第53页 |
| ·相位控制范围 | 第53-54页 |
| ·相位控制精度 | 第54-55页 |
| ·长期相位漂移 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 结束语 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第62页 |