| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-27页 |
| ·ZnO材料的基本特征 | 第8-10页 |
| ·ZnO材料的研究进展 | 第10-25页 |
| ·ZnO的紫外受激发射和电致发光的研究进展 | 第10-11页 |
| ·ZnO的P型掺杂的研究进展 | 第11-16页 |
| ·磷掺杂ZnO的研究进展 | 第16-25页 |
| ·本论文的选题依据和要解决的问题 | 第25-27页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备技术和表征手段 | 第27-36页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射技术 | 第27-29页 |
| ·退火设备 | 第29页 |
| ·ZnO薄膜的表征手段 | 第29-36页 |
| ·X射线衍射谱 | 第29-30页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第30-31页 |
| ·X－射线能量散射分析能谱（EDX） | 第31页 |
| ·微区光致发光谱 | 第31-32页 |
| ·透射和吸收光谱 | 第32-33页 |
| ·霍尔效应测量 | 第33-36页 |
| 第三章 磷掺杂P型ZnO 薄膜的制备、性能及机制 | 第36-51页 |
| ·磷掺杂P型ZnO薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·靶材的制备 | 第37页 |
| ·薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·磷掺杂P型ZnO薄膜的表征和性能分析 | 第38-50页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的结构表征及分析 | 第38-41页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的组分分析 | 第41页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的电学性质的表征和分析 | 第41-44页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第44-45页 |
| ·光致发光谱分析 | 第45-46页 |
| ·变温光致发光谱分析 | 第46-48页 |
| ·吸收光谱分析 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 缓冲层对磷掺杂ZnO薄膜的质量、物理性能的影响及P-ZnO的形成机制 | 第51-68页 |
| ·薄膜制备 | 第51-52页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的结构表征及分析 | 第52-54页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的电学性质的表征和分析 | 第54-56页 |
| ·磷掺杂 ZnO 薄膜的组分分析 | 第56页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第56-57页 |
| ·磷掺杂ZnO薄膜的光学性质的分析 | 第57-62页 |
| ·光致发光谱分析 | 第57-59页 |
| ·变温光致发光谱分析 | 第59-61页 |
| ·吸收光谱分析 | 第61-62页 |
| ·缓冲层对磷掺杂P-ZnO薄膜的结构、光学、电学等方面的影响 | 第62-65页 |
| ·缓冲层对薄膜结构的影响 | 第62-64页 |
| ·缓冲层对薄膜光学性质的影响 | 第64-65页 |
| ·缓冲层对薄膜电学性质的影响 | 第65页 |
| ·P-ZnO薄膜形成机制的探讨 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 摘要 | 第79-82页 |
| Abstract | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86页 |