中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-37页 |
·等离子体的基本特征 | 第11-12页 |
·等离子体技术及应用 | 第12-15页 |
·等离子体技术的应用领域 | 第12-13页 |
·等离子体技术在微电子工业中的应用 | 第13-15页 |
·微电子工业中常用的几种低温等离子体源 | 第15-22页 |
·容性耦合等离子体源 | 第15-17页 |
·电子回旋共振等离子体源 | 第17-18页 |
·感应耦合等离子体源 | 第18-20页 |
·螺旋波等离子体源 | 第20-22页 |
·双频 CCP 的特性 | 第22-25页 |
·双频 CCP 的研究现状 | 第25-32页 |
·双频 CCP 的研究方法 | 第25-28页 |
·双频 CCP 的研究进展 | 第28-32页 |
·本文的研究内容 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-37页 |
第二章 等离子体诊断方法 | 第37-59页 |
·等离子体诊断的意义和类型 | 第37-39页 |
·静电探针(朗缪尔探针) | 第39-48页 |
·静电探针的类型及其适用范围 | 第39-40页 |
·朗缪尔探针的使用条件 | 第40-41页 |
·朗缪尔单探针的工作原理 | 第41-45页 |
·由朗缪尔探针伏安特性曲线获得等离子体参数的方法 | 第45-48页 |
·等离子体发射光谱 | 第48-52页 |
·发射光谱在等离子体诊断中的应用 | 第48-49页 |
·发射光谱基本原理 | 第49-50页 |
·光强标定的发射光谱技术 | 第50-52页 |
·等离子体的质谱诊断 | 第52-55页 |
·质谱技术的原理 | 第52-53页 |
·等离子体质谱诊断的流分析 | 第53-54页 |
·等离子体质谱诊断的分压强分析 | 第54-55页 |
·中性成分的质谱诊断 | 第55页 |
·小结与展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
第三章 实验系统 | 第59-68页 |
·真空室 | 第59-60页 |
·抽气系统 | 第60页 |
·电控系统 | 第60页 |
·气路系统 | 第60-61页 |
·水冷却及水压报警系统 | 第61页 |
·射频电源 | 第61页 |
·等离子体诊断设备 | 第61-68页 |
·朗缪尔探针 | 第61-63页 |
·光纤光谱仪 | 第63-64页 |
·四极质谱仪 | 第64-68页 |
第四章 双频 CCP 的朗缪尔探针诊断研究 | 第68-97页 |
·引言 | 第68-69页 |
·实验安排 | 第69-71页 |
·数据分析及处理 | 第71-72页 |
·结果与讨论 | 第72-93页 |
·低频源的输入功率对双频 CCP 的影响 | 第72-79页 |
·双频 CCP 等离子体参数随气压的演变 | 第79-85页 |
·双频 CCP 等离子体参数随径向位置的演变 | 第85-89页 |
·双频 CCP 中的电子加热机制 | 第89-93页 |
·本章小结 | 第93-94页 |
参考文献 | 第94-97页 |
第五章 双频 CCP 的发射光谱研究 | 第97-114页 |
·引言 | 第97-98页 |
·实验安排 | 第98-99页 |
·数据处理与分析 | 第99-101页 |
·结果与讨论 | 第101-112页 |
·驱动频率对反应基团形成的影响 | 第101-106页 |
·双频 CCP 中反应基团的调控 | 第106-111页 |
·放电气压对双频 CCP 中反应基团的影响 | 第111-112页 |
·本章小结 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-114页 |
第六章 双频 CCP 的质谱研究 | 第114-127页 |
·引言 | 第114-115页 |
·实验安排与数据处理 | 第115-116页 |
·结果与讨论 | 第116-125页 |
·CHF3 源气体与放电等离子体中的质谱成分 | 第116-117页 |
·单频 CCP 中 CHF3 放电等离子体的质谱成分 | 第117-121页 |
·双频 CCP 中 CHF3 放电等离子体的质谱成分 | 第121-125页 |
·本章小结 | 第125-126页 |
参考文献 | 第126-127页 |
第七章 结论与展望 | 第127-129页 |
·结论 | 第127-128页 |
·展望 | 第128-129页 |
创新性说明 | 第129-130页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第130-131页 |
致谢 | 第131-132页 |
详细摘要 | 第132-140页 |