基于激光扫描系统的光栅光阀研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-41页 |
| ·微光学概述 | 第14-15页 |
| ·微光学的产生和发展 | 第14-15页 |
| ·微光学的研究领域和分类 | 第15页 |
| ·MEMS技术 | 第15-23页 |
| ·MEMS概念及发展 | 第15-17页 |
| ·MEMS制造工艺的分类 | 第17-21页 |
| ·MEMS的应用及发展前景 | 第21-23页 |
| ·MOEMS简介 | 第23-34页 |
| ·MOEMS的特点 | 第24-25页 |
| ·MOEMS的分类及应用 | 第25-32页 |
| ·国内外MOEMS的研究情况 | 第32-34页 |
| ·本论文的主要研究内容及创新点 | 第34-38页 |
| ·课题背景和意义 | 第34-35页 |
| ·论文结构安排和主要研究内容 | 第35-36页 |
| ·课题研究的创新点 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 第二章 光栅光阀结构理论特性分析 | 第41-65页 |
| ·光栅光阀发展简介 | 第41-44页 |
| ·光栅光阀新结构的提出 | 第44-46页 |
| ·光栅光阀理论特性分析 | 第46-61页 |
| ·机械特性分析 | 第46-55页 |
| ·光学特性分析 | 第55-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第三章 光栅光阀制造工艺研究 | 第65-99页 |
| ·光栅光阀光刻工艺研究 | 第65-75页 |
| ·光刻胶特性简介 | 第66-68页 |
| ·光刻工艺流程 | 第68-75页 |
| ·光栅光阀制作中参数选择对光刻结果的影响 | 第75-83页 |
| ·实验设备及其参数 | 第75-76页 |
| ·光刻胶应力对光刻胶附着性能的影响 | 第76-77页 |
| ·基片表面浸润性对光刻胶附着性能的影响 | 第77-78页 |
| ·卷边现象对光刻胶表面形貌的影响 | 第78-79页 |
| ·烘烤过程中光刻胶温度对表面形貌的影响 | 第79-82页 |
| ·退火处理对光刻胶附着性的影响 | 第82-83页 |
| ·光栅光阀干法刻蚀工艺研究 | 第83-89页 |
| ·干法刻蚀分类 | 第83-84页 |
| ·反应离子束刻蚀(RIBE) | 第84-87页 |
| ·感应耦合等离子体(ICP)刻蚀 | 第87-89页 |
| ·两种干法刻蚀方法比较 | 第89页 |
| ·光栅光阀湿法刻蚀工艺研究 | 第89-96页 |
| ·二氧化硅的湿法刻蚀 | 第90-91页 |
| ·硅的湿法刻蚀 | 第91-94页 |
| ·KOH湿法刻蚀实验研究 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 第四章 光栅光阀器件制作与测试 | 第99-115页 |
| ·光栅光阀制作中的黏附问题 | 第99-103页 |
| ·影响黏附现象的因素 | 第99-102页 |
| ·解决黏附现象的方法 | 第102-103页 |
| ·光栅光阀制作工艺流程 | 第103-106页 |
| ·光栅光阀器件性能测试 | 第106-113页 |
| ·光栅光阀衍射光强测试 | 第108-111页 |
| ·光栅光阀动态测试 | 第111-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-115页 |
| 第五章 扫描系统中微光纤密排技术 | 第115-129页 |
| ·标准光纤密排存在的问题 | 第115-117页 |
| ·微光纤密排技术 | 第117-126页 |
| ·微光纤拉制 | 第117-118页 |
| ·微光纤特性 | 第118-121页 |
| ·微光纤密排工艺 | 第121-124页 |
| ·微光纤密排对焦深的影响 | 第124-126页 |
| ·本章小结 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-129页 |
| 第六章 总结与展望 | 第129-133页 |
| ·论文总结 | 第129-132页 |
| ·应用前景展望 | 第132-133页 |
| 攻读博士期间完成的论文 | 第133页 |
